硅表面氧吸附、扩散及硅氧团簇形成的理论研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-17页 |
| ·研究背景和意义 | 第11-12页 |
| ·国内外现状分析 | 第12-15页 |
| ·实验研究现状 | 第12-14页 |
| ·理论计算现状 | 第14-15页 |
| ·本文的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 基本原理与方法 | 第17-39页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·Born-Oppenheimer 近似 | 第17-18页 |
| ·密度泛函理论 | 第18-28页 |
| ·赝势 | 第28-32页 |
| ·从头计算分子动力学方法 | 第32-35页 |
| ·晶体特性的计算原理与分析方法概述 | 第35-39页 |
| ·晶体几何优化 | 第35页 |
| ·能带与态密度 | 第35-36页 |
| ·密立根布据分析 | 第36-39页 |
| 第三章 硅表面氧的吸附与扩散 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·理论模型与计算方法 | 第40-41页 |
| ·物理模型 | 第40-41页 |
| ·计算方法 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·吸附过程与能量变化 | 第41-46页 |
| ·扩散系数分析 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第四章 硅氧团簇原子与电子结构 | 第49-59页 |
| ·概述 | 第49页 |
| ·物理模型与计算方法 | 第49-52页 |
| ·计算的物理模型 | 第49-51页 |
| ·计算方法 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-57页 |
| ·表面结构分析 | 第52-55页 |
| ·Mulliken 布居分析 | 第55-56页 |
| ·表面电子密度与成键情况 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第57-59页 |
| 第五章 硅表面与硅氧团簇的能带结构及电子态密度 | 第59-65页 |
| ·理论模型与计算方法 | 第59页 |
| ·理论模型 | 第59页 |
| ·计算参数 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-64页 |
| ·能带结构分析 | 第60-61页 |
| ·表面电子态密度分析 | 第61-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 在校期间的科研成果 | 第75页 |
