| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第10-11页 |
| ·薄膜的形成与生长 | 第11-13页 |
| ·凝结过程 | 第11-12页 |
| ·薄膜的生长 | 第12-13页 |
| ·纳米晶复合膜的微观结构 | 第13-16页 |
| ·薄膜的力学性能 | 第16-22页 |
| ·薄膜的硬度 | 第16-21页 |
| ·薄膜的摩擦磨损性能 | 第21-22页 |
| ·本文选题依据及主要内容 | 第22-25页 |
| ·V-C-N 体系薄膜的研究现状 | 第22-23页 |
| ·选题依据 | 第23页 |
| ·本文主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 样品的制备与表征 | 第25-32页 |
| ·直流反应磁控溅射方法 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·样品制备 | 第26-27页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·基片预处理 | 第26-27页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第27页 |
| ·样品表征 | 第27-32页 |
| 第3章 沉积条件对 VC 薄膜的微观结构和力学性能的影响 | 第32-68页 |
| ·磁控溅射法制备 VC 薄膜（基片不升温） | 第32-44页 |
| ·CH4 流量对 VC 薄膜微结构及力学性能的影响 | 第32-40页 |
| ·衬底偏压对 VC 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第40-44页 |
| ·磁控溅射法制备 VC 薄膜(基片升温) | 第44-66页 |
| ·基片温度对 VC 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第44-50页 |
| ·CH4 流量对 VC 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第50-59页 |
| ·衬底偏压对 VC 薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第59-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第4章 N2流量对 VCxNy薄膜微结构及力学性能的影响 | 第68-78页 |
| ·实验条件 | 第68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第5章 本文总结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
