| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| ·超硬膜概述 | 第11-16页 |
| ·多弧离子镀技术概述 | 第16-17页 |
| ·多弧离子镀简介 | 第16-17页 |
| ·多弧离子镀的特点 | 第17页 |
| ·本课题的提出 | 第17-19页 |
| 2 实验材料与实验方法 | 第19-25页 |
| ·合金靶材成分设计与制备 | 第19-20页 |
| ·基体材料的选择及预处理 | 第20-21页 |
| ·基体材料的选择 | 第20页 |
| ·基体材料的预处理 | 第20页 |
| ·基体样品形状及尺寸 | 第20-21页 |
| ·膜层性能的检测方法 | 第21-25页 |
| ·表面硬度测试 | 第21-22页 |
| ·附着力测试 | 第22-23页 |
| ·耐磨性测试 | 第23-24页 |
| ·抗氧化性测试 | 第24-25页 |
| 3 沉积工艺设计 | 第25-30页 |
| ·沉积参数 | 第25-28页 |
| ·基体负偏压 | 第25-26页 |
| ·靶的电流强度 | 第26-27页 |
| ·反应室真空度 | 第27页 |
| ·反应气体分压 | 第27页 |
| ·试样的转动速率 | 第27-28页 |
| ·试样温度 | 第28页 |
| ·沉积时间 | 第28页 |
| ·沉积工艺参数选择 | 第28-30页 |
| ·沉积工艺参数选择范围 | 第28页 |
| ·沉积工艺参数列表 | 第28-30页 |
| 4 (TI,AL,CR)N 膜层表面形貌及断口组织 | 第30-36页 |
| ·(TI,AL, CR)N 膜层表面形貌 | 第30-31页 |
| ·(TI,AL,CR)N 膜断口组织 | 第31-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 5 (TI,AL,CR)N 膜硬度、结合力及膜层的结构与成分 | 第36-41页 |
| ·(TI,AL,CR)N 膜层的显微硬度 | 第36-37页 |
| ·(TI,AL,CR)N 膜层的附着力 | 第37-38页 |
| ·(TI,AL,CR)N 膜层结构与成分分析 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 6 (TI,AL,CR)N 膜耐磨性 | 第41-49页 |
| ·载荷对(TI,AL,CR)N 膜耐磨性的影响 | 第42-43页 |
| ·其他摩擦磨损参数对膜层耐磨性的影响 | 第43-46页 |
| ·不同沉积工艺下所沉积(TI,AL,CR)N 膜耐磨性对比分析 | 第46-47页 |
| ·(TI,AL,CR)N 膜耐磨性讨论 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 7 (TI,AL,CR)N 抗氧化性 | 第49-59页 |
| ·氧化试验 | 第49页 |
| ·氧化物的表面形貌(100H)和氧化增重曲线 | 第49-56页 |
| ·氧化物的XRD 分析 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 8 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 在学研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
