| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·腔量子电动力学的发展 | 第12-13页 |
| ·J-C模型简介 | 第13-15页 |
| ·光学微腔 | 第15-18页 |
| ·回音壁模式光学微腔的原理 | 第17-18页 |
| ·基于芯片的回音壁模式光学微腔 | 第18页 |
| ·量子点及其在腔量子电动学中的应用 | 第18-22页 |
| 第2章 微盘腔的制备和光纤锥的耦合探测 | 第22-40页 |
| ·微盘腔的制备 | 第22-27页 |
| ·二氧化硅微盘制备的相关光刻工艺 | 第22-25页 |
| ·硅的各向同性刻蚀 | 第25-27页 |
| ·使用光纤锥耦合微盘腔 | 第27-39页 |
| ·光纤锥的相关理论和制备 | 第27-30页 |
| ·光纤锥耦合微盘腔 | 第30-34页 |
| ·微盘腔内的回音壁模式 | 第34-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第3章 微芯圆环腔的实验研究 | 第40-54页 |
| ·制备微芯圆环腔 | 第40-44页 |
| ·微芯圆环腔的回音壁模式和品质因数 | 第44-47页 |
| ·微芯圆环腔的热效应和光机械效应 | 第47-53页 |
| ·在微腔内的热效应 | 第47-50页 |
| ·微腔中的光机械效应 | 第50-53页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| 第4章 微腔中散射导致的模式耦合现象 | 第54-74页 |
| ·模式耦合的由来 | 第54-57页 |
| ·模式耦合分析 | 第57-62页 |
| ·光纤锥耦合的透过率和反射率 | 第57-60页 |
| ·模式耦合时微腔内的场分布 | 第60-62页 |
| ·模式耦合的实验探测及耦合强度 | 第62-68页 |
| ·模式耦合强度 | 第62-63页 |
| ·模式耦合的实验探测 | 第63-66页 |
| ·模式耦合强度的测算 | 第66-67页 |
| ·模式劈裂时出现的非对称模式现象 | 第67-68页 |
| ·存在模式耦合时腔量子电动力学系统 | 第68-71页 |
| ·结论 | 第71-74页 |
| 第5章 CdSe/ZnS量子点的实验研究 | 第74-94页 |
| ·核-壳结构胶体量子点 | 第74-77页 |
| ·CdSe量子点 | 第74-75页 |
| ·带有壳层的CdSe量子点 | 第75-76页 |
| ·CdSe/ZnS量子点的性质 | 第76-77页 |
| ·使用CdSe/ZnS量子点实现单光子源 | 第77-87页 |
| ·单光子源和应用 | 第78-80页 |
| ·CdSe/ZnS的单光子发射 | 第80-85页 |
| ·单个CdSe/ZnS量子点的荧光闪烁 | 第85-87页 |
| ·表面等离子体激元对于CdSe/ZnS量子点的调控 | 第87-92页 |
| ·表面等离子体激元作用的CdSe/ZnS量子点 | 第87-90页 |
| ·表面等离子激元作用的CdSe/ZnS单光子发射 | 第90-92页 |
| ·结论 | 第92-94页 |
| 第6章 微腔与量子点的耦合实验 | 第94-110页 |
| ·微腔对量子点的荧光调制 | 第94-98页 |
| ·表面粘附量子点后微芯圆环腔的品质因数 | 第94-95页 |
| ·微芯圆环腔产生的Purcell效应 | 第95-97页 |
| ·微盘腔产生的Purcell效应 | 第97-98页 |
| ·光纤锥测量量子点衰减的动力学过程 | 第98-101页 |
| ·量子点与微腔的可控位置的耦合 | 第101-106页 |
| ·量子点在光纤锥上的定位 | 第101-104页 |
| ·可控耦合的Purcell效应 | 第104-106页 |
| ·微芯圆环腔尺寸效应对Purcell因子的影响 | 第106-109页 |
| ·结论 | 第109-110页 |
| 第7章 总结与展望 | 第110-114页 |
| 参考文献 | 第114-124页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第124-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |