| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-10页 |
| 1.绪论 | 第10-22页 |
| 1.1研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2甲烷二氧化碳重整反应原理概述 | 第11-15页 |
| 1.2.1反应热力学研究 | 第11-13页 |
| 1.2.2反应机理与动力学模型 | 第13-15页 |
| 1.3甲烷二氧化碳重整Ni催化剂研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4Ni催化剂性能影响因素 | 第16-20页 |
| 1.4.1分散度与尺寸 | 第17-18页 |
| 1.4.2金属载体相互作用 | 第18-19页 |
| 1.4.3催化剂表面酸碱度 | 第19页 |
| 1.4.4储氧能力 | 第19-20页 |
| 1.5本论文研究思路以及内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1研究思路 | 第20-21页 |
| 1.5.2研究内容 | 第21-22页 |
| 2.实验部分 | 第22-27页 |
| 2.1实验试剂与仪器 | 第22-24页 |
| 2.2催化剂的表征方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1X-射线衍射分析（XRD） | 第24页 |
| 2.2.2电感耦合等离子体发射光谱分析（ICP） | 第24页 |
| 2.2.3比表面积分析（BET） | 第24-25页 |
| 2.2.4氢气程序升温还原分析（H2-TPR） | 第25页 |
| 2.2.5透射电镜分析（TEM） | 第25页 |
| 2.2.6热重分析（TG） | 第25页 |
| 2.3催化剂的性能评估 | 第25-27页 |
| 2.3.1催化性能评估装置 | 第25-26页 |
| 2.3.2催化性能评估分析方案 | 第26-27页 |
| 3.静电吸附和浸渍法制备的Ni/SiO2催化剂甲烷二氧化碳重整反应性能研究 | 第27-39页 |
| 3.1引言 | 第27-28页 |
| 3.2Ni/SiO2催化剂制备 | 第28-29页 |
| 3.2.1SiO2制备 | 第28页 |
| 3.2.2Ni/SiO2-E和Ni/SiO2-I催化剂制备 | 第28-29页 |
| 3.3Ni/SiO2催化剂表征 | 第29-33页 |
| 3.4Ni/SiO2催化剂性能 | 第33-35页 |
| 3.5反应后Ni/SiO2催化剂表征 | 第35-38页 |
| 3.6小结 | 第38-39页 |
| 4.不同焙烧温度Ni@SiO2催化剂甲烷二氧化碳重整反应性能研究 | 第39-51页 |
| 4.1引言 | 第39页 |
| 4.2Ni@SiO2催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 4.3反应前Ni@SiO2催化剂的表征 | 第40-44页 |
| 4.4焙烧温度对Ni@SiO2催化剂性能的影响 | 第44-48页 |
| 4.5反应后Ni@SiO2催化剂的表征 | 第48-50页 |
| 4.6小结 | 第50-51页 |
| 5.（Ni/CeO2）@SiO2催化剂的制备及其甲烷二氧化碳重整反应性能究 | 第51-61页 |
| 5.1引言 | 第51页 |
| 5.2催化剂的制备 | 第51-52页 |
| 5.3反应前催化剂的表征 | 第52-55页 |
| 5.4（Ni/CeO2）@SiO2催化剂的性能研究 | 第55-57页 |
| 5.5反应后（Ni/CeO2）@SiO2催化剂的表征 | 第57-60页 |
| 5.6小结 | 第60-61页 |
| 6.结论与展望 | 第61-63页 |
| 6.1结论 | 第61-62页 |
| 6.2展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在学期间发表的学术论文及其他科研成果 | 第70页 |
