射频磁控溅射制备TiB2超硬薄膜及其显微结构和性能的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·超硬薄膜研究进展 | 第11-18页 |
| ·本文的研究目的与意义 | 第18-19页 |
| 2 理论与技术介绍 | 第19-69页 |
| ·物理气相沉积工艺简介 | 第19页 |
| ·成核理论 | 第19-34页 |
| ·溅射原理及技术简介 | 第34-42页 |
| ·薄膜形貌 | 第42-54页 |
| ·分析方法与仪器设备介绍 | 第54-69页 |
| 3 实验过程与测试方法 | 第69-77页 |
| ·磁控溅射装置 | 第69页 |
| ·溅射靶材的制备 | 第69-71页 |
| ·溅射沉积方案的制定 | 第71-73页 |
| ·基片的处理过程 | 第73-74页 |
| ·薄膜结构、形貌、成分 | 第74-75页 |
| ·薄膜机械性能 | 第75-77页 |
| 4 TiB_2薄膜的结构与形貌特征 | 第77-111页 |
| ·X射线衍射分析结果 | 第77-94页 |
| ·同步辐射 | 第94-105页 |
| ·FESEM截面观察 | 第105-108页 |
| ·AES分析研究 | 第108-111页 |
| 5 TiB_2薄膜的机械性能 | 第111-116页 |
| ·薄膜的硬度和弹性模量 | 第111-112页 |
| ·薄膜的附着力 | 第112-116页 |
| 6 实验结果与讨论 | 第116-120页 |
| ·TiB_2薄膜机械性能 | 第116-117页 |
| ·TiB_2薄膜的显微结构 | 第117-118页 |
| ·TiB_2薄膜的择优取向 | 第118-120页 |
| 7 全文总结 | 第120-122页 |
| ·本文的主要结论 | 第120-121页 |
| ·本文的创新点 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-131页 |
| 附录1 谢乐方程的推导 | 第131-134页 |
| 附录2 攻读博士学位期间发表的论文 | 第134页 |
