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TATB基PBX的量子化学和耗散粒子动力学研究

摘要第1-9页
Abstract第9-15页
第1章 绪论第15-21页
   ·TATB基PBX的研究背景第15-16页
   ·TATB基PBX的研究现状第16-17页
   ·理论研究TATB基PBX的目的和意义第17-19页
     ·量子化学研究第17-18页
     ·介观尺度上的理论研究第18-19页
   ·本文的研究内容第19-21页
第2章 在分子尺度上的计算方法和理论基础第21-26页
   ·密度泛函理论的简介第21页
   ·绝热近似第21-22页
   ·HOHENBERG-KOHN定理与KOHN-SHAM方程第22-24页
   ·B3LYP理论第24页
   ·基组的选择第24-25页
   ·基组叠加误差校正第25-26页
第3章 混合炸药组分分子间相互作用的量化研究第26-45页
   ·引言第26-27页
   ·硅烷偶联剂与TATB分子间相互作用的量化研究第27-35页
     ·计算方法和细节第27页
     ·结果与讨论第27-35页
   ·高聚物粘结剂与硅烷偶联剂分子间的相互作用第35-43页
     ·计算方法和细节第36页
     ·结果与讨论第36-43页
   ·小结第43-45页
第4章 介观尺度上的计算方法和理论基础第45-57页
   ·DPD的发展简史第45-48页
   ·耗散粒子动力学方法第48-55页
     ·计算方法的简介第48-49页
     ·DPD方法中的涨落-耗散(Fluctuation-dissipative)理论第49-53页
     ·排斥参数与Flory-Huggins参数之间的映射关系第53-55页
   ·耗散粒子动力学中的简化单位第55-56页
   ·小结第56-57页
第5章 TATB基PBX造粒过程的耗散粒子动力学模拟第57-68页
   ·引言第57页
   ·模型构建和模拟细节第57-59页
   ·粒子间的排斥参数第59-60页
   ·结果与讨论第60-67页
     ·TATB基PBX内部的微细结构第60-64页
     ·高聚物粘结剂在TATB基PBX中的扩散行为第64-65页
     ·在350K和400K下TATB基PBX内部的微细结构第65-66页
     ·界面张力随温度的变化关系曲线第66-67页
   ·小结第67-68页
第6章 在硅烷偶联剂存在条件下TATB基PBX的耗散粒子动力学模拟第68-82页
   ·引言第68-69页
   ·模型构建和模拟细节第69-70页
   ·粒子间的排斥参数第70-71页
   ·结果与讨论第71-81页
     ·TATB基PBX的微细结构第72-78页
     ·硅烷偶联剂在TATB基PBX中的作用机理第78-81页
   ·小结第81-82页
第7章 高聚物粘结剂溶液的耗散粒子动力学模拟第82-92页
   ·引言第82页
   ·模型构建和模拟细节第82-84页
   ·粒子间的排斥参数第84页
   ·均方根末端距和回旋半径第84-85页
   ·自组编程第85-88页
   ·结果与讨论第88-91页
     ·选择溶剂第88-90页
     ·选择氟聚物第90-91页
   ·小结第91-92页
结论第92-95页
致谢第95-96页
参考文献第96-105页
攻读博士学位期间发表的论文及科研成果第105-106页

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