基于窄带水平集和蒙特卡洛方法的MEMS微加工工艺的三维仿真
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 概论 | 第9-15页 |
| 1.1 MEMS简介 | 第9-10页 |
| 1.2 MEMS计算机辅助设计 | 第10-12页 |
| 1.2.1 MEMS设计 | 第11页 |
| 1.2.2 MEMS CAD简介 | 第11-12页 |
| 1.3 课题的背景以及意义 | 第12-13页 |
| 1.4 课题主要工作 | 第13-14页 |
| 1.5 本章小结 | 第14-15页 |
| 第二章 反应离子刻蚀和等离子增强淀积模拟现状 | 第15-29页 |
| 2.1 MEMS加工技术简介 | 第15-18页 |
| 2.1.1 体加工技术 | 第15-16页 |
| 2.1.2 表面加工技术 | 第16-18页 |
| 2.1.3 LIGA技术 | 第18页 |
| 2.2 MEMS工艺中刻蚀图形转移技术 | 第18-25页 |
| 2.2.1 化学湿法腐蚀技术 | 第19-20页 |
| 2.2.2 反应离子刻蚀 | 第20-22页 |
| 2.2.3 深反应离子刻蚀 | 第22-25页 |
| 2.3 MEMS工艺中淀积图形转移技术 | 第25-26页 |
| 2.4 反应离子刻蚀和等离子体增强淀积的模型概述 | 第26-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 基于水平集算法的表面演化模型 | 第29-40页 |
| 3.1 水平集算法 | 第30-34页 |
| 3.2 快速推进水平集算法 | 第34-36页 |
| 3.3 窄带水平集算法 | 第36-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 基于蒙特卡洛和射线追踪算法的流量物理模型 | 第40-54页 |
| 4.1 蒙特卡洛统计学基本思想 | 第40-41页 |
| 4.2 射线追踪算法 | 第41-49页 |
| 4.2.1 球形模型 | 第42-45页 |
| 4.2.2 圆盘模型 | 第45-47页 |
| 4.2.3 空间划分 | 第47-49页 |
| 4.3 Bresenham直线算法 | 第49-53页 |
| 4.3.1 Bresenham直线算法详解 | 第50-52页 |
| 4.3.2 Bresenham直线加速算法 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 软件设计与仿真结果 | 第54-69页 |
| 5.1 版图解析模块 | 第55-57页 |
| 5.2 参数控制模块 | 第57-60页 |
| 5.3 算法、显示软件仿真结果 | 第60-68页 |
| 5.3.1 表面微加工工艺仿真 | 第60-62页 |
| 5.3.2 Bosch工艺仿真 | 第62-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 总结和展望 | 第69-72页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第69-70页 |
| 6.2 存在的主要问题 | 第70-71页 |
| 6.3 未来的工作展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 作者简介 | 第78页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第78页 |
