| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 冲刷腐蚀概述 | 第13-17页 |
| 1.2.1 冲刷腐蚀原理及其分类 | 第13-14页 |
| 1.2.2 冲刷腐蚀交互作用 | 第14-15页 |
| 1.2.3 冲刷腐蚀影响因素 | 第15-17页 |
| 1.3 空泡腐蚀概述 | 第17-19页 |
| 1.3.1 空蚀破坏特点 | 第17-18页 |
| 1.3.2 空蚀破坏理论 | 第18页 |
| 1.3.3 空蚀影响因素 | 第18-19页 |
| 1.4 Ta-Si系金属硅化物 | 第19-22页 |
| 1.4.1 Ta-Si系材料的种类 | 第19-20页 |
| 1.4.2 Ta_5Si_3的晶体结构 | 第20-22页 |
| 1.5 β-Ta_5Si_3的理论研究方法及进展 | 第22-26页 |
| 1.5.1 多粒子体系的薛定谔方程 | 第22-24页 |
| 1.5.2 密度泛函理论 | 第24-26页 |
| 1.5.3 理论研究进展 | 第26页 |
| 1.6 课题的提出 | 第26-29页 |
| 1.6.1 课题提出意义 | 第26-27页 |
| 1.6.2 课题的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第29-35页 |
| 2.1 实验材料 | 第29页 |
| 2.1.1 基体材料 | 第29页 |
| 2.1.2 靶材制备 | 第29页 |
| 2.2 实验设备及实验步骤 | 第29-30页 |
| 2.3 分析仪器及方法 | 第30-35页 |
| 2.3.1 微观组织分析 | 第30页 |
| 2.3.2 纳米压入及压痕测试 | 第30-31页 |
| 2.3.3 划痕测试 | 第31页 |
| 2.3.4 电化学测试 | 第31-32页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱(XPS)测试 | 第32-33页 |
| 2.3.6 冲刷腐蚀试验 | 第33页 |
| 2.3.7 空泡腐蚀试验 | 第33-35页 |
| 第三章 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3性能的第一性原理研究 | 第35-46页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 计算模型与参数 | 第35-37页 |
| 3.2.1 计算模型 | 第35-36页 |
| 3.2.2 计算参数 | 第36页 |
| 3.2.3 弹性性质的计算 | 第36-37页 |
| 3.3 计算结果及讨论 | 第37-45页 |
| 3.3.1 Al原子的择优占位 | 第37-38页 |
| 3.3.2 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3的晶格参数与形成焓 | 第38-39页 |
| 3.3.3 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3的弹性模量 | 第39-41页 |
| 3.3.4 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3的韧脆性 | 第41-42页 |
| 3.3.5 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3的电子结构分析 | 第42-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层组织与性能分析 | 第46-64页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层的物相表征 | 第46-51页 |
| 4.2.1 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层的XRD分析 | 第46-48页 |
| 4.2.2 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层的SEM分析 | 第48页 |
| 4.2.3 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层的TEM分析 | 第48-51页 |
| 4.3 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3纳米晶涂层的力学性能研究 | 第51-55页 |
| 4.3.1 涂层的硬度和弹性模量分析 | 第51-52页 |
| 4.3.2 涂层的残余应力分析 | 第52-53页 |
| 4.3.3 涂层的显微压痕分析 | 第53-54页 |
| 4.3.4 涂层的结合力分析 | 第54-55页 |
| 4.4 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层电化学腐蚀性能研究 | 第55-62页 |
| 4.4.1 开路电位-时间(OCP-t)测试 | 第56页 |
| 4.4.2 动电位极化(Potentiodynamicpolarization)测试 | 第56-57页 |
| 4.4.3 电化学阻抗谱(EIS)测试 | 第57-60页 |
| 4.4.4 钝化膜成分XPS分析 | 第60-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层冲刷腐蚀性能研究 | 第64-76页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 冲刷对电流的影响(i-t曲线) | 第64-66页 |
| 5.3 冲蚀条件下动电位极化(Potentiodynamicpolarization)测试 | 第66-68页 |
| 5.4 冲蚀条件下电化学阻抗谱(EIS)测试 | 第68-72页 |
| 5.5 冲蚀失重和形貌 | 第72-73页 |
| 5.6 冲蚀机理探讨 | 第73-75页 |
| 5.7 本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 β-Ta_5(Si_(1-x)Al_x)_3涂层空泡腐蚀性能研究 | 第76-86页 |
| 6.1 引言 | 第76页 |
| 6.2 空蚀功率对开路电位的影响(OCP-t) | 第76-77页 |
| 6.3 空蚀功率对电流的影响(i-t曲线) | 第77页 |
| 6.4 空蚀条件下动电位极化(Potentiodynamicpolarization)测试 | 第77-79页 |
| 6.5 空蚀条件下电化学阻抗谱(EIS)测试 | 第79-83页 |
| 6.6 空蚀失重和形貌 | 第83-84页 |
| 6.7 本章小结 | 第84-86页 |
| 第七章 结论 | 第86-89页 |
| 参考文献 | 第89-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第101页 |
