| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-23页 |
| ·TS-1的表征研究概况 | 第10-12页 |
| ·X射线衍射 | 第10页 |
| ·红外光谱 | 第10-11页 |
| ·拉曼光谱 | 第11页 |
| ·紫外可见反射光谱 | 第11页 |
| ·X光电子能谱 | 第11页 |
| ·硅魔角核磁共振 | 第11-12页 |
| ·红外光谱技术及其在催化研究中的应用 | 第12-19页 |
| ·红外光谱技术的发展概述 | 第12-13页 |
| ·透射光谱技术 | 第13-14页 |
| ·漫反射光谱技术 | 第14页 |
| ·发射光谱技术 | 第14页 |
| ·光声光谱技术 | 第14-15页 |
| ·红外光谱技术在催化领域中的应用 | 第15-19页 |
| ·红外光谱技术的应用进展 | 第19-21页 |
| ·等离子体技术在催化研究中的应用 | 第21-22页 |
| ·选题依据 | 第22-23页 |
| 2 实验部分 | 第23-28页 |
| ·傅里叶红外光谱仪 | 第23页 |
| ·双光束红外吸收池 | 第23页 |
| ·实验材料 | 第23-24页 |
| ·实验条件的考察 | 第24-26页 |
| ·分辨率的选择 | 第24页 |
| ·杂散光的影响 | 第24-25页 |
| ·制片厚度的影响 | 第25-26页 |
| ·扫描时间 | 第26页 |
| ·实验方法及步骤 | 第26-27页 |
| ·数据处理及分析方法 | 第27-28页 |
| 3 钛硅分子筛TS-1的红外光谱研究 | 第28-48页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·廉价法TS-1骨架振动红外表征 | 第28-30页 |
| ·廉价法TS-1的羟基振动光谱 | 第30-38页 |
| ·吡啶吸附考察微米TS-1催化剂的羟基及表面酸性 | 第34-36页 |
| ·焙烧温度对微米TS-1催化剂骨架结构和羟基的影响 | 第36-38页 |
| ·不同TS-1催化剂的羟基比较 | 第38-44页 |
| ·同一合成体系不同硅源催化剂羟基的区别 | 第38页 |
| ·不同晶粒大小TS-1的羟基比较 | 第38-39页 |
| ·不同改性对TS-1催化剂羟基及丙稀气相环氧化反应的影响 | 第39-43页 |
| ·三异丙苯硅烷化对TS-1催化剂羟基的影响 | 第43-44页 |
| ·等离子体放电处理对TS-1催化剂酸性、羟基和骨架结构的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 4 等离子体处理ZSM-5分子筛的红外光谱研究 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·等离子体放电对ZSM-5沸石的影响 | 第48-57页 |
| ·NH_3等离子体放电处理HZM-5催化剂 | 第48-52页 |
| ·N_2等离子体处理HZSM-5催化剂 | 第52-55页 |
| ·H_2等离子体处理HZSM-5催化剂 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
