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核—壳结构铜/银复合粉制备及其在电子浆料中的应用

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第12-30页
    1.1 研究背景第12-14页
        1.1.1 导体浆料概述第12-13页
        1.1.2 导体浆料的分类第13-14页
    1.2 低温固化型导体浆料第14-20页
        1.2.1 低温固化型导体浆料的组成第15-17页
        1.2.2 低温固化型导体浆料的导电机理第17-18页
        1.2.3 低温固化型导体浆料的国内外研究现状第18-20页
    1.3 铜/银复合粉的制备技术及国内外研究进展第20-25页
        1.3.1 化学还原法第21-23页
        1.3.2 置换反应法第23-24页
        1.3.3 置换与化学沉积复合法第24页
        1.3.4 喷雾热解法第24-25页
    1.4 铜/银复合粉的应用第25-27页
    1.5 本论文的研究意义与研究内容第27-30页
        1.5.1 研究意义第27页
        1.5.2 研究内容第27-30页
第二章 实验材料与方法第30-42页
    2.1 实验用材料第30-31页
        2.1.1 铜/银复合粉实验材料第30-31页
        2.1.2 铜/银复合粉导体浆料实验材料第31页
    2.2 实验仪器与设备第31-32页
    2.3 实验方法第32-36页
        2.3.1 铜粉包覆前的预处理第32-33页
        2.3.2 铜/银复合粉的制备第33-35页
        2.3.3 铜/银复合粉导体浆料的制备第35-36页
        2.3.4 技术路线第36页
    2.4 表征第36-42页
        2.4.1 铜/银复合粉的表征第37-38页
        2.4.2 铜/银复合粉导体浆料的表征第38-42页
第三章 铜/银复合粉性能的研究第42-62页
    3.1 工艺条件对铜/银复合粉性能的影响第42-46页
        3.1.1 反应温度对银镀层的影响第42-43页
        3.1.2 pH值的影响第43页
        3.1.3 超声搅拌对镀银层的影响第43-45页
        3.1.4 铜粉分散性对铜/银复合粉性能的影响第45-46页
    3.2 铜/银复合粉镀覆层沉积机理的研究第46-47页
    3.3 铜/银复合粉的性能分析第47-53页
        3.3.1 表观色泽第47-48页
        3.3.2 粒度第48-51页
        3.3.3 松装密度第51-52页
        3.3.4 压片电阻第52-53页
    3.4 铜/银复合粉的XRD和能谱分析第53-56页
    3.5 银镀层包覆的包覆率和均匀性分析第56-58页
    3.6 铜/银复合粉的热稳定性分析第58-59页
    3.7 本章小结第59-62页
第四章 铜/银复合粉导体浆料性能的研究第62-76页
    4.1 环氧树脂与固化剂的选择第62-65页
        4.1.1 环氧树脂的选择第62-63页
        4.1.2 固化剂的选择第63-64页
        4.1.3 环氧树脂固化工艺优化第64-65页
    4.2 浆料制备工艺条件的优化第65-68页
        4.2.1 铜/银复合粉导体浆料中导电相含量的影响第65-67页
        4.2.2 固化温度对导电膜性能的影响第67页
        4.2.3 固化时间对导电膜性能的影响第67-68页
    4.3 铜/银复合粉浆料与银浆的性能对比第68-74页
        4.3.1 浆料的抗氧化稳定性第68-73页
        4.3.2 银浆与铜/银复合粉浆料综合性能对比第73-74页
    4.4 本章小结第74-76页
第五章 结论与展望第76-78页
    5.1 结论第76页
    5.2 展望第76-78页
致谢第78-80页
参考文献第80-88页
附录 (攻读硕士学位期间发表的论文)第88页

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