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SKH51钢表面渗氮及热丝增强等离子体磁控溅射制备氮化铬涂层

中文摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
1.绪论第9-16页
    1.1 引言第9页
    1.2 离子渗氮第9-12页
        1.2.1 离子渗氮原理第9-10页
        1.2.2 离子渗氮特点第10-11页
        1.2.3 纯氮气离子渗氮第11页
        1.2.4 离子渗氮新技术及设备第11-12页
    1.3 真空镀膜第12-15页
        1.3.1 物理气相沉积(PVD)第12-13页
        1.3.2 反应磁控溅射第13-15页
    1.4 渗氮/镀膜复合处理第15页
    1.5 本课题研究的内容和意义第15-16页
        1.5.1 本课题研究的内容第15页
        1.5.2 本课题研究的意义第15-16页
2.实验方案第16-26页
    2.1 实验研究思路第16-18页
    2.2 实验设备第18-19页
    2.3 实验材料第19页
    2.4 实验流程第19-20页
        2.4.1 实验前基体预处理第19页
        2.4.2 实验过程第19-20页
    2.5 涂层微观分析第20-22页
        2.4.1 超精深显微镜第20页
        2.4.2 扫描电子显微镜与能谱仪第20-21页
        2.4.3 XRD结构分析第21-22页
    2.6 涂层性能分析第22-26页
        2.6.1 涂层厚度的测量第22页
        2.6.2 涂层结合强度的测量第22-23页
        2.6.3 耐磨性能的测试第23-24页
        2.6.4 涂层硬度的测量第24-26页
3.热丝增强等离子体高速钢渗氮第26-36页
    3.1 工艺参数第26-27页
    3.2 实验结果讨论和分析第27-35页
        3.2.1 对渗氮层厚度的影响第27-28页
        3.2.2 对渗氮层形貌的影响第28-29页
        3.2.3 渗氮层的相结构第29-30页
        3.2.4 渗氮层纳米硬度及弹性模量第30-33页
        3.2.5 渗氮层的耐磨性及磨损轮廓第33-35页
    3.3 本章小结第35-36页
4.热丝增强等离子体制备氮化铬涂层第36-63页
    4.1 靶电流对制备氮化铬涂层的影响第36-45页
        4.1.1 工艺参数设定第36-37页
        4.1.2 实验结果与分析第37-44页
        4.1.3 小结第44-45页
    4.2 热丝放电电流对氮化铬涂层的影响第45-54页
        4.2.1 工艺参数第45-46页
        4.2.2 实验结果与分析第46-53页
        4.2.3 小结第53-54页
    4.3 镀膜偏压对氮化铬涂层的影响第54-63页
        4.3.1 工艺参数第54-55页
        4.3.2 实验结果与分析第55-62页
        4.3.3 小结第62-63页
5.热丝增强等离子体一体化制备渗氮/氮化铬涂层第63-71页
    5.1 工艺参数第63-64页
    5.2 实验结果与分析第64-70页
        5.2.1 形貌及结构第64页
        5.2.2 渗氮/氮化铬涂层物相结构第64-65页
        5.2.3 渗氮/氮化铬涂层纳米硬度及弹性模量第65-67页
        5.2.4 渗氮/氮化铬涂层耐磨性第67-69页
        5.2.5 渗氮/氮化铬涂层结合强度第69-70页
    5.3 本章小结第70-71页
结论第71-72页
参考文献第72-74页
致谢第74-75页
作者简介第75-76页

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