| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 铁电材料与铁电薄膜 | 第9-12页 |
| 1.1.1 铁电体简介 | 第9-11页 |
| 1.1.2 铁电存储器及其失效问题 | 第11-12页 |
| 1.2 铁电薄膜漏电流研究概况 | 第12-15页 |
| 1.2.1 漏电流的导电机制 | 第12-14页 |
| 1.2.2 漏电流的影响因素 | 第14-15页 |
| 1.3 铁电薄膜的界面和应变效应 | 第15-18页 |
| 1.3.1 铁电薄膜的界面效应 | 第15-16页 |
| 1.3.2 铁电薄膜的应变效应 | 第16-18页 |
| 1.4 本论文的选题依据与研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 本论文的选题依据 | 第18页 |
| 1.4.2 本论文的研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 密度泛函理论与第一性原理研究方法 | 第20-24页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第20-22页 |
| 2.1.1 密度泛函理论简介 | 第20-21页 |
| 2.1.2 交换关联泛函 | 第21-22页 |
| 2.2 格林函数方法与输运电流 | 第22-23页 |
| 2.3 本论文所用第一性原理计算软件 | 第23-24页 |
| 2.3.1 VASP软件 | 第23页 |
| 2.3.2 ATK软件 | 第23-24页 |
| 第3章 界面结构对漏电流的影响 | 第24-30页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 计算方法与模型 | 第25页 |
| 3.3 结果分析与讨论 | 第25-29页 |
| 3.3.1 电容结构分析 | 第25-26页 |
| 3.3.2 薄膜漏电流的计算 | 第26-27页 |
| 3.3.3 界面势垒与漏电流的关系 | 第27-29页 |
| 3.4 结论 | 第29-30页 |
| 第4章 缓冲层对铁电薄膜极化对称性及漏电流的影响 | 第30-42页 |
| 4.1 引言 | 第30-31页 |
| 4.2 缓冲层引起的极化对称性破缺 | 第31-38页 |
| 4.2.1 计算方法 | 第31页 |
| 4.2.2 PbO终端体系下极化结果分析 | 第31-35页 |
| 4.2.3 TiO_2终端体系下极化结果分析 | 第35-38页 |
| 4.3 缓冲层对铁电薄膜漏电流的影响 | 第38-40页 |
| 4.3.1 计算方法及模型 | 第38页 |
| 4.3.2 加入缓冲层后体系漏电流的计算 | 第38-40页 |
| 4.4 结论 | 第40-42页 |
| 第5章 外延应变对漏电流的调控 | 第42-50页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 计算方法与模型 | 第42-43页 |
| 5.3 结果讨论与分析 | 第43-49页 |
| 5.3.1 终端对铁电薄膜极化强度及漏电流的影响 | 第43-45页 |
| 5.3.2 外延应变对铁电薄膜极化强度及漏电流的影响 | 第45-47页 |
| 5.3.3 不同相结构下铁电薄膜极化强度及漏电流的对比 | 第47-49页 |
| 5.4 结论 | 第49-50页 |
| 第6章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 论文总结 | 第50-51页 |
| 6.2 工作展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 个人简历、攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第60页 |