异质衬底多晶硅薄膜籽晶层的制备及其性质研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 太阳电池的发展及研究现状 | 第10-16页 |
| 1.1.1 能源危机和新能源的发展 | 第10-11页 |
| 1.1.2 太阳电池的发展 | 第11-13页 |
| 1.1.3 太阳电池的分类 | 第13-16页 |
| 1.2 薄膜太阳电池 | 第16-22页 |
| 1.2.1 化合物半导体太阳电池 | 第16-17页 |
| 1.2.2 新材料太阳电池 | 第17-18页 |
| 1.2.3 硅基薄膜太阳电池 | 第18-22页 |
| 1.3 异质衬底多晶硅薄膜的制备技术 | 第22-25页 |
| 1.3.1 低温制备技术 | 第23-24页 |
| 1.3.2 高温制备技术 | 第24-25页 |
| 1.4 本论文的研究内容及安排 | 第25-27页 |
| 第2章 异质衬底多晶硅薄膜的制备系统与表征技术 | 第27-37页 |
| 2.1 制备系统 | 第27-31页 |
| 2.1.1 磁控溅射系统 | 第27-29页 |
| 2.1.2 管式退火炉 | 第29页 |
| 2.1.3 快速热退火(RTA)系统 | 第29-30页 |
| 2.1.4 CVD系统 | 第30-31页 |
| 2.2 表征技术 | 第31-35页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第31-32页 |
| 2.2.2 拉曼光谱 | 第32-33页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第33-34页 |
| 2.2.4 四探针测试 | 第34页 |
| 2.2.5 霍尔测试 | 第34-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 铝诱导多晶硅薄膜籽晶层的制备及性质研究 | 第37-47页 |
| 3.1 多晶硅薄膜籽晶层的制备 | 第37-39页 |
| 3.1.1 异质衬底的选择和制备方法 | 第37-38页 |
| 3.1.2 多晶硅薄膜籽晶层的制备工艺 | 第38-39页 |
| 3.2 多晶硅薄膜籽晶层的性质研究 | 第39-45页 |
| 3.2.1 结构和晶粒尺寸 | 第39-42页 |
| 3.2.2 结晶性和择优取向 | 第42-44页 |
| 3.2.3 电学性质 | 第44-45页 |
| 3.3 铝诱导结晶过程分析 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 石墨纸衬底上多晶硅薄膜籽晶层的初步研究 | 第47-51页 |
| 4.1 石墨纸的预处理 | 第47页 |
| 4.2 制备工艺 | 第47-48页 |
| 4.2.1 磁控溅射制备过程 | 第47-48页 |
| 4.2.2 快速热退火晶化过程 | 第48页 |
| 4.3 XRD测试分析 | 第48-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 结论与展望 | 第51-52页 |
| 5.1 论文总结 | 第51页 |
| 5.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
