| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-16页 |
| 第二章 文献综述 | 第16-39页 |
| 2.1 NiO的基本性质 | 第16-17页 |
| 2.2 NiO纳米材料的应用 | 第17-21页 |
| 2.2.1 催化剂领域 | 第17-18页 |
| 2.2.2 电池电极领域 | 第18-20页 |
| 2.2.3 透明导电薄膜领域 | 第20-21页 |
| 2.3 NiO的掺杂方法 | 第21-29页 |
| 2.3.1 磁控溅射法 | 第22-23页 |
| 2.3.2 热喷雾法溶胶(Spray Pyrolysis technique, SPT) | 第23-24页 |
| 2.3.3 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD) | 第24-26页 |
| 2.3.4 化学气相沉积(chemical vapour deposition, CVD) | 第26-27页 |
| 2.3.5 溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第27-28页 |
| 2.3.6 溶液法(Solution) | 第28-29页 |
| 2.4 纳米晶掺杂机理 | 第29-37页 |
| 2.4.1 纳米晶成核长大 | 第31-34页 |
| 2.4.2 纳米晶掺杂模型 | 第34-35页 |
| 2.4.3 纳米晶掺杂方法 | 第35-37页 |
| 2.5 课题的内容和意义 | 第37-39页 |
| 第三章 实验方法及表征手段 | 第39-44页 |
| 3.1 实验试剂与设备 | 第39-41页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第39-40页 |
| 3.1.2 实验设备 | 第40-41页 |
| 3.2 测试手段与原理 | 第41-44页 |
| 3.2.1 透射电子显微镜 | 第41页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜 | 第41-42页 |
| 3.2.3 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第42页 |
| 3.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第42页 |
| 3.2.5 X射线衍射仪(XRD) | 第42页 |
| 3.2.6 拉曼光谱测试(Raman Spectroscopy) | 第42页 |
| 3.2.7 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES) | 第42-43页 |
| 3.2.8 原子力显微镜(AFM) | 第43页 |
| 3.2.9 I-V测试仪 | 第43页 |
| 3.2.10 变温霍尔效应测试仪(Hall) | 第43-44页 |
| 第四章 一锅法合成、掺杂NiO纳米晶的制备及表征研究 | 第44-53页 |
| 4.1 一锅法合成NiO纳米晶 | 第44-46页 |
| 4.1.1 实验过程 | 第44页 |
| 4.1.2 实验结果及讨论 | 第44-46页 |
| 4.2 一锅法合成NiO掺锂纳米晶 | 第46-52页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第46-47页 |
| 4.2.2 实验结果及讨论 | 第47-50页 |
| 4.2.3 NiO薄膜的性能研究 | 第50-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 NiO纳米晶的掺杂机理研究 | 第53-60页 |
| 5.1 NiO纳米晶的形核长大 | 第53-57页 |
| 5.1.1 制备方法 | 第53页 |
| 5.1.2 结果分析 | 第53-57页 |
| 5.2 掺杂锂元的形核温度 | 第57-58页 |
| 5.2.1 制备方法 | 第57页 |
| 5.2.2 结果分析 | 第57-58页 |
| 5.3 掺杂机理讨论 | 第58-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 热注入法合成、掺杂NiO纳米晶的制备及表征研究 | 第60-74页 |
| 6.1 热注入法合成NiO纳米晶 | 第60-62页 |
| 6.2 热注入法合成NiO掺锂纳米晶 | 第62-69页 |
| 6.2.1 实验过程 | 第62-63页 |
| 6.2.2 实验结果及讨论 | 第63-66页 |
| 6.2.3 NiO薄膜的性能研究 | 第66-69页 |
| 6.3 不同掺杂方法制备NiO掺锂对比 | 第69-72页 |
| 6.3.1 掺杂方法 | 第69-70页 |
| 6.3.2 实验结果比较及讨论 | 第70-71页 |
| 6.3.3 NiO薄膜的性能对比 | 第71-72页 |
| 6.4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第七章 总结与展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 个人简历 | 第84-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第86页 |
