| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-28页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第9-11页 |
| 1.2 半导体光催化氧化的原理 | 第11-12页 |
| 1.3 影响半导体光催化活性的主要因素 | 第12-16页 |
| 1.3.1 光催化剂晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.3.2 光催化剂的能带结构 | 第13-14页 |
| 1.3.3 光催化剂的粒径及比表面积 | 第14-16页 |
| 1.4 半导体光催化剂性能提高的途径 | 第16-21页 |
| 1.4.1 金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| 1.4.2 非金属离子掺杂 | 第17页 |
| 1.4.3 半导体的复合 | 第17-19页 |
| 1.4.4 催化剂表面贵金属沉积 | 第19-20页 |
| 1.4.5 半导体的表面光敏化技术 | 第20-21页 |
| 1.5 本论文涉及的光催化剂的研究进展 | 第21-26页 |
| 1.5.1 简单半导体 ZnO | 第21-23页 |
| 1.5.2 高紫外活性复合氧化物 BiPO_4 | 第23-24页 |
| 1.5.3 可见光型光催化剂 Bi_2WO_6 | 第24-26页 |
| 1.6 本论文研究的创新点和内容 | 第26-28页 |
| 第2章 实验部分 | 第28-36页 |
| 2.1 实验药品 | 第28-29页 |
| 2.2 实验仪器 | 第29-34页 |
| 2.2.1 化学吸附仪 | 第29页 |
| 2.2.2 紫外-可见漫反射光谱仪 | 第29页 |
| 2.2.3 X 射线衍射仪 | 第29-30页 |
| 2.2.4 高分辨透射电子显微镜 | 第30页 |
| 2.2.5 扫描电子显微镜 | 第30页 |
| 2.2.6 荧光光谱仪 | 第30页 |
| 2.2.7 拉曼光谱仪 | 第30-31页 |
| 2.2.8 傅里叶红外光谱仪 | 第31页 |
| 2.2.9 电子顺磁共振谱仪 | 第31页 |
| 2.2.10 比表面积测定仪 | 第31页 |
| 2.2.11 Zeta 电位分析仪 | 第31-32页 |
| 2.2.12 总有机碳分析仪 | 第32页 |
| 2.2.13 高效液相色谱分析仪 | 第32页 |
| 2.2.14 电化学系统 | 第32-33页 |
| 2.2.15 光化学反应仪 | 第33-34页 |
| 2.3 光催化剂样品制备方法简述 | 第34-36页 |
| 2.3.1 真空脱氧法（Vacuum Deoxidation） | 第34页 |
| 2.3.2 可控氢化还原法（Controllable Hydrogenation Reduction） | 第34-36页 |
| 第3章 表面氧缺陷对纳米 ZnO 光催化性能的影响 | 第36-61页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 实验部分 | 第37-38页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第37页 |
| 3.2.2 表面氧缺陷 ZnO 粉体光催化剂的制备 | 第37页 |
| 3.2.3 光电催化活性评价 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-60页 |
| 3.3.1 可见光活性及光电流的产生 | 第38-39页 |
| 3.3.2 紫外光活性及光电流的提高 | 第39-40页 |
| 3.3.3 氧缺陷的形成和结构 | 第40-43页 |
| 3.3.4 光活性提高机理 | 第43-47页 |
| 3.3.5 氢化还原氧缺陷 ZnO_(1-x)的形成及结构 | 第47-51页 |
| 3.3.6 氢化还原氧缺陷 ZnO_(1-x)的光催化活性 | 第51-54页 |
| 3.3.7 氧缺陷的数目和种类与光催化性能的关系 | 第54-59页 |
| 3.3.8 稳定性 | 第59-60页 |
| 3.4 结论 | 第60-61页 |
| 第4章 BiPO_4氧缺陷型光催化剂的制备及其光活性的研究 | 第61-86页 |
| 4.1 引言 | 第61-62页 |
| 4.2 实验部分 | 第62-63页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第62页 |
| 4.2.2 氧缺陷 BiPO_4催化剂的制备 | 第62-63页 |
| 4.2.3 光催化降解活性评价 | 第63页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第63-84页 |
| 4.3.1 真空氧缺陷 BiPO_(4-x)光催化活性和光电流提高 | 第63-65页 |
| 4.3.2 真空氧缺陷 BiPO_4催化剂的稳定性、选择性和中间体 | 第65-67页 |
| 4.3.3 真空 BiPO_4中氧缺陷的生成和结构 | 第67-70页 |
| 4.3.4 光催化活性和能效提高的机理 | 第70-73页 |
| 4.3.5 氢化还原氧缺陷 BiPO_(4-x)的光活性及光电流的提高 | 第73-76页 |
| 4.3.6 氧缺陷的形成和结构 | 第76-80页 |
| 4.3.7 光活性提高的机理 | 第80-83页 |
| 4.3.8 氢化还原氧缺陷 BiPO_4的稳定性和选择性 | 第83-84页 |
| 4.4 结论 | 第84-86页 |
| 第5章 表面氧缺陷提高 Bi_2WO_6可见光催化剂活性的研究 | 第86-103页 |
| 5.1 引言 | 第86-87页 |
| 5.2 实验部分 | 第87-88页 |
| 5.2.1 试剂与仪器 | 第87页 |
| 5.2.2 氧缺陷 Bi_2WO_6-x粉体催化剂的制备 | 第87页 |
| 5.2.3 ITO/ Bi_2WO_6和氧缺陷 ITO/Bi_2WO_6-x薄膜电极的制备 | 第87-88页 |
| 5.2.4 光电性能评价 | 第88页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第88-101页 |
| 5.3.1 可见光催化活性 | 第88-92页 |
| 5.3.2 氧缺陷的形成 | 第92-94页 |
| 5.3.3 氧缺陷的结构 | 第94-98页 |
| 5.3.4 表面氧缺陷对 Bi_2WO_6活性提高的机制 | 第98-101页 |
| 5.4 结论 | 第101-103页 |
| 第6章 结论 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-118页 |
| 致谢 | 第118-120页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第120-121页 |
