摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
引言 | 第10-12页 |
1 绪论 | 第12-23页 |
1.1 光子晶体 | 第12-14页 |
1.2 二维光子晶体波导 | 第14-19页 |
1.2.1 二维光子晶体波导简介 | 第14-15页 |
1.2.2 二维光子晶体波导传输损耗来源 | 第15-16页 |
1.2.3 二维光子晶体波导的慢光特性 | 第16-18页 |
1.2.4 二维光子晶体波导制备方法 | 第18-19页 |
1.3 硫系基质二维光子晶体波导 | 第19-21页 |
1.3.1 硫系玻璃的基本特性 | 第19-20页 |
1.3.2 硫系基质二维光子晶体波导研究现状 | 第20-21页 |
1.4 研究意义与研究内容 | 第21-23页 |
1.4.1 选题意义 | 第21-22页 |
1.4.2 研究内容 | 第22-23页 |
2 光子晶体数值研究方法 | 第23-35页 |
2.1 平面波展开法 | 第23-26页 |
2.1.1 麦克斯韦方程组 | 第24-25页 |
2.1.2 本征方程 | 第25-26页 |
2.2 时域有限差分法 | 第26-29页 |
2.2.1 时域有限差分法算法 | 第26-29页 |
2.2.2 稳定性条件 | 第29页 |
2.2.3 边界条件 | 第29页 |
2.3 RSoft 光学软件基本模拟操作 | 第29-34页 |
2.3.1 二维光子晶体的结构设置 | 第30-31页 |
2.3.2 二维光子晶体的平面波展开法模拟 | 第31-32页 |
2.3.3 二维光子晶体的时域有限差分法模拟 | 第32-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
3 硫系基质二维光子晶体波导特性研究 | 第35-43页 |
3.1 硫系基质玻璃折射率 | 第35-36页 |
3.2 硫系基质二维光子晶体波导色散特性 | 第36-38页 |
3.2.1 硫系基质二维光子晶体的色散特性 | 第37页 |
3.2.2 硫系基质二维光子晶体波导色散特性 | 第37-38页 |
3.3 硫系基质二维光子晶体大带隙结构设计 | 第38-42页 |
3.3.1 空气孔半径选择 | 第39-40页 |
3.3.2 平板厚度选择 | 第40-42页 |
3.4 本章小结 | 第42-43页 |
4 低色散、宽带、慢光硫系基质二维光子晶体波导结构设计 | 第43-61页 |
4.1 硫系基质二维光子晶体波导中的慢光特性及评价 | 第43-48页 |
4.1.1 光子晶体波导中慢光形成机制 | 第43-44页 |
4.1.2 慢光评价参数及计算 | 第44-46页 |
4.1.3 硫系基质二维光子晶体波导慢光性能研究及结构优化 | 第46-48页 |
4.2 对称硫系基质二维光子晶体波导慢光特性优化研究 | 第48-53页 |
4.2.1 对称结构介绍 | 第48-49页 |
4.2.2 模拟分析 | 第49-52页 |
4.2.3 讨论和总结 | 第52-53页 |
4.3 非对称硫系基质二维光子晶体波导慢光特性优化研究 | 第53-59页 |
4.3.1 非对称结构介绍 | 第54页 |
4.3.2 模拟分析 | 第54-57页 |
4.3.3 讨论和总结 | 第57-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-61页 |
5 硫系基质二维光子晶体波导制备初步研究 | 第61-72页 |
5.1 硫系基质二维光子晶体波导制备流程 | 第61页 |
5.2 硫系基质玻璃薄膜制备研究 | 第61-64页 |
5.2.1 硫系基质薄膜制备步骤 | 第62-63页 |
5.2.2 镀膜速率参数控制研究 | 第63-64页 |
5.3 聚焦离子束法制备硫系基质二维光子晶体波导 | 第64-67页 |
5.3.1 制备流程 | 第65-66页 |
5.3.2 分析及结论 | 第66-67页 |
5.4 电子束曝光制备硫系基质二维光子晶体波导 | 第67-71页 |
5.4.1 制备流程 | 第68-69页 |
5.4.2 分析及结论 | 第69-71页 |
5.5 本章小结 | 第71-72页 |
6 结论 | 第72-75页 |
参考文献 | 第75-81页 |
在学研究成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82页 |