| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 图表清单 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 金属间化合物 | 第12-14页 |
| 1.2.1 金属间化合物 | 第12页 |
| 1.2.2 MoSi_2以及 Mo_3Si 晶体结构与基本特性 | 第12-14页 |
| 1.3 MoSi_2及其复合材料的应用及其氧化性能研究现状 | 第14-19页 |
| 1.3.1 MoSi_2及其复合材料的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.2 MoSi_2氧化性能的研究进展 | 第15-17页 |
| 1.3.3 MoSi_2氧化性能的热力学以及动力学研究 | 第17-18页 |
| 1.3.4 MoSi_2在不同温度区间的氧化性能 | 第18-19页 |
| 1.3.5 合金元素对抗氧化性能的影响 | 第19页 |
| 1.4 Mo_3Si 的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.5 课题的提出 | 第20页 |
| 1.6 课题的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 材料与实验方法 | 第22-27页 |
| 2.1 实验材料及其预处理 | 第22页 |
| 2.2 实验靶材的制备 | 第22页 |
| 2.3 实验设备及操作步骤 | 第22-23页 |
| 2.4 涂层制备 | 第23-24页 |
| 2.4.1 (Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的制备 | 第23-24页 |
| 2.4.2 (Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的制备 | 第24页 |
| 2.5 分析仪器及方法 | 第24-27页 |
| 2.5.1 微观组织分析 | 第24-25页 |
| 2.5.2 划痕测试 | 第25页 |
| 2.5.3 摩擦磨损测试 | 第25页 |
| 2.5.4 氧化性能测试 | 第25页 |
| 2.5.5 X 射线光电子能谱测试 | 第25页 |
| 2.5.6 涂层的纳米压入测试 | 第25-26页 |
| 2.5.7 电化学性能测试 | 第26页 |
| 2.5.8 第一性原理 | 第26-27页 |
| 第三章 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层组织与性能分析 | 第27-36页 |
| 3.1 本章提要 | 第27页 |
| 3.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层组织分析 | 第27-30页 |
| 3.2.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的 XRD 分析 | 第27-28页 |
| 3.2.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的 SEM 分析 | 第28-30页 |
| 3.2.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的 TEM 分析 | 第30页 |
| 3.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层性能分析 | 第30-35页 |
| 3.3.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的结合力分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的硬度及弹性模量 | 第31-32页 |
| 3.3.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的摩擦研究 | 第32-33页 |
| 3.3.4 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的磨损研究 | 第33-34页 |
| 3.3.5 磨损形貌及机理 | 第34-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 (Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层氧化性能以及其氧化膜的电化学性能 | 第36-59页 |
| 4.1 本章提要 | 第36页 |
| 4.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层在 500℃空气中等温循环氧化 | 第36-42页 |
| 4.2.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层 500℃下等温循环氧化动力学曲线 | 第36-37页 |
| 4.2.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层氧化产物(500℃)的 XRD 分析 | 第37-38页 |
| 4.2.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层的氧化形貌 | 第38-42页 |
| 4.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)Si_2涂层氧化膜电化学性能测试 | 第42-58页 |
| 4.3.1 开路电位(OCP)-时间测试 | 第42-45页 |
| 4.3.2 低频阻抗-时间测试 | 第45-47页 |
| 4.3.3 电化学阻抗谱(EIS)分析 | 第47-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 复合化，合金化对纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层性能的影响 | 第59-76页 |
| 5.1 本章摘要 | 第59页 |
| 5.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的制备 | 第59页 |
| 5.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的组织分析 | 第59-64页 |
| 5.3.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的 X 射线衍射分析 | 第59-61页 |
| 5.3.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的横截面 SEM 以及 TEM 分析 | 第61-64页 |
| 5.4 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的力学性能研究 | 第64-67页 |
| 5.4.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的硬度及弹性模量 | 第64-65页 |
| 5.4.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的韧性研究 | 第65-67页 |
| 5.5 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的电化学性能研究 | 第67-75页 |
| 5.5.1 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的开路电位-时间 | 第67页 |
| 5.5.2 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的低频阻抗-时间 | 第67-68页 |
| 5.5.3 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的动电位极化曲线 | 第68-69页 |
| 5.5.4 纳米晶(Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的交流阻抗 | 第69-70页 |
| 5.5.5 (Mo_(1-x)Cr_x)_3Si 涂层的腐蚀后的 XPS 分析 | 第70-75页 |
| 5.6 本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 全文总结 | 第76页 |
