交变电场诱导单射流电纺直写技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| Table of Contents | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 柔性电子 | 第11-13页 |
| 1.2 静电纺丝 | 第13-19页 |
| 1.2.1 静电纺丝技术 | 第13-15页 |
| 1.2.2 近场静电纺丝 | 第15-16页 |
| 1.2.3 电纺直写技术 | 第16-17页 |
| 1.2.4 交流静电纺丝 | 第17-19页 |
| 1.3 研究目标及内容 | 第19-23页 |
| 1.3.1 本研究课题的提出 | 第19页 |
| 1.3.2 本文研究目标 | 第19-20页 |
| 1.3.3 本文主要研究内容 | 第20-23页 |
| 第二章 电纺直写射流喷射行为仿真研究 | 第23-45页 |
| 2.1 电纺直写仿真控制方程 | 第23-25页 |
| 2.2 电纺直写仿真模型建立 | 第25-28页 |
| 2.3 静电场中单射流喷射的仿真 | 第28-39页 |
| 2.3.1 电压对射流的影响 | 第29-32页 |
| 2.3.2 极间距对射流的影响 | 第32-34页 |
| 2.3.3 溶液特性对射流的影响 | 第34-39页 |
| 2.4 交变电场单射流喷射仿真 | 第39-43页 |
| 2.4.1 交变电场对射流的影响规律 | 第40-42页 |
| 2.4.2 射流电荷分布及中心速度演变规律 | 第42-43页 |
| 2.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第三章 交变电场诱导单射流喷印实验研究 | 第45-71页 |
| 3.1 电纺直写系统 | 第45-49页 |
| 3.1.1 主要实验仪器设备 | 第46-48页 |
| 3.1.2 实验材料 | 第48-49页 |
| 3.2 交变电场的单射流喷射 | 第49-52页 |
| 3.3 交变电场电液耦合喷印 | 第52-65页 |
| 3.3.1 电压对喷印的影响 | 第52-55页 |
| 3.3.2 施加电压频率对喷印的影响 | 第55-58页 |
| 3.3.3 电压占空比对喷印的影响 | 第58-60页 |
| 3.3.4 供液速度对喷射频率与微滴尺寸的影响 | 第60-61页 |
| 3.3.5 极间距对喷射频率与微滴尺寸的影响 | 第61-63页 |
| 3.3.6 溶液浓度的影响 | 第63-65页 |
| 3.4 溶液的导电率 | 第65-70页 |
| 3.5 本章小结 | 第70-71页 |
| 第四章 单射流在绝缘基底上的沉积行为研究 | 第71-93页 |
| 4.1 绝缘基底上的电纺直写 | 第71-74页 |
| 4.2 绝缘基底上的交流电纺直写规律 | 第74-91页 |
| 4.2.1 溶液浓度的影响 | 第75-77页 |
| 4.2.2 交变电场参数 | 第77-82页 |
| 4.2.3 供液速度对直写的影响 | 第82-84页 |
| 4.2.4 极间距对直写的影响 | 第84-86页 |
| 4.2.5 收集板移动速度对直写的影响 | 第86-89页 |
| 4.2.6 溶液导电率的影响 | 第89-91页 |
| 4.3 本章小结 | 第91-93页 |
| 第五章 结论与展望 | 第93-97页 |
| 5.1 论文总结 | 第93-94页 |
| 5.2 工作展望 | 第94-97页 |
| 参考文献 | 第97-103页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第103-105页 |
| 致谢 | 第105页 |
