| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| 1.1 镁及镁合金概述 | 第9-13页 |
| 1.1.1 镁及镁合金简介 | 第9-10页 |
| 1.1.2 镁合金的特性与应用 | 第10-11页 |
| 1.1.3 镁合金的腐蚀原理 | 第11-12页 |
| 1.1.4 镁合金的腐蚀类型 | 第12-13页 |
| 1.2 镁合金的表面防护处理 | 第13-19页 |
| 1.2.1 化学转化 | 第14-15页 |
| 1.2.2 阳极氧化 | 第15-16页 |
| 1.2.3 微弧氧化 | 第16-17页 |
| 1.2.4 金属镀层 | 第17-18页 |
| 1.2.5 有机涂层 | 第18-19页 |
| 1.3 硅烷偶联剂特性 | 第19-23页 |
| 1.3.1 硅烷偶联剂简介 | 第19-20页 |
| 1.3.2 硅烷偶联剂在金属表面处理中的应用 | 第20-21页 |
| 1.3.3 硅烷化处理的作用原理 | 第21-22页 |
| 1.3.4 硅烷化处理的影响因素 | 第22-23页 |
| 1.4 氧化石墨烯特性 | 第23-26页 |
| 1.4.1 氧化石墨烯简介 | 第23-24页 |
| 1.4.2 氧化石墨烯的制备 | 第24-25页 |
| 1.4.3 氧化石墨烯的应用 | 第25-26页 |
| 1.5 本课题研究的意义和内容 | 第26-29页 |
| 1.5.1 课题的研究意义 | 第26-27页 |
| 1.5.2 课题的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-35页 |
| 2.1 实验材料与试剂 | 第29-30页 |
| 2.2 实验仪器与设备 | 第30页 |
| 2.3 镁合金基体前处理工艺 | 第30页 |
| 2.4 样品表面复合涂层制备工艺 | 第30-32页 |
| 2.4.1 氧化石墨烯制备工艺 | 第30-31页 |
| 2.4.2 APTES/GO复合涂层制备工艺 | 第31页 |
| 2.4.3 MAO(GO)复合陶瓷层制备工艺 | 第31-32页 |
| 2.5 复合涂层的性能测试分析 | 第32-33页 |
| 2.5.1 复合涂层电化学测试 | 第32-33页 |
| 2.5.2 复合涂层全浸蚀测试 | 第33页 |
| 2.6 复合涂层的形貌与成分表征 | 第33-35页 |
| 2.6.1 扫描电子显微镜和能谱分析 | 第33-34页 |
| 2.6.2 X射线衍射成分分析 | 第34页 |
| 2.6.3 红外吸收光谱分析 | 第34页 |
| 2.6.4 拉曼光谱分析 | 第34页 |
| 2.6.5 X射线光电子谱分析 | 第34-35页 |
| 第三章 镁合金表面APTES/GO复合涂层的制备与耐腐蚀性研究 | 第35-53页 |
| 3.1 氧化石墨烯的形貌和成分表征 | 第35-37页 |
| 3.2 APTES硅烷涂层工艺参数的确定 | 第37-42页 |
| 3.2.1 醇水比对APTES硅烷涂层的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.2 硅烷含量对APTES硅烷涂层的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.3 处理时间对APTES硅烷涂层的影响 | 第41-42页 |
| 3.3 APTES/GO复合涂层形貌与成分表征 | 第42-47页 |
| 3.4 APTES/GO复合涂层电化学测试分析 | 第47-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-53页 |
| 第四章 镁合金表面MAO(GO)复合陶瓷层的制备与耐腐蚀性研究 | 第53-67页 |
| 4.1 MAO(GO)复合陶瓷层制备工艺参数优化 | 第53-59页 |
| 4.1.1 GO添加量对MAO(GO)复合陶瓷层的影响 | 第53-55页 |
| 4.1.2 电流密度对MAO(GO)复合陶瓷层的影响 | 第55-58页 |
| 4.1.3 氧化时间对MAO(GO)复合陶瓷层的影响 | 第58-59页 |
| 4.2 MAO(GO)复合陶瓷层的形貌与能谱分析 | 第59-62页 |
| 4.3 MAO(GO)复合陶瓷层电化学测试分析 | 第62-65页 |
| 4.4 MAO(GO)复合陶瓷层全浸蚀试验分析 | 第65-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论和展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 攻读学位期间已发表和待发表的相关论文 | 第79-83页 |
