| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 1 引言 | 第12-19页 |
| 1.1 硅基薄膜太阳电池 | 第12-14页 |
| 1.1.1 硅基薄膜太阳电池的研究背景和意义 | 第12-13页 |
| 1.1.2 硅基薄膜太阳电池的结构及其工作原理 | 第13-14页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜概述 | 第14-15页 |
| 1.3 AZO透明导电膜 | 第15-17页 |
| 1.3.1 AZO薄膜的特性 | 第15-16页 |
| 1.3.2 AZO薄膜的国内外研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 本文研究的目的及主要内容 | 第17-19页 |
| 2 AZO薄膜及太阳电池的制备与表征 | 第19-26页 |
| 2.1 AZO薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第19页 |
| 2.1.2 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| 2.1.3 化学气相沉积法 | 第20页 |
| 2.1.4 脉冲激光沉积法 | 第20页 |
| 2.2 薄膜材料及太阳电池的表征方法 | 第20-26页 |
| 2.2.1 薄膜的透射谱分析 | 第20-21页 |
| 2.2.2 薄膜的方块电阻测试 | 第21页 |
| 2.2.3 薄膜的厚度测试 | 第21-22页 |
| 2.2.4 扫描电镜(SEM)分析 | 第22-23页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| 2.2.6 电流电压(I-V)测试 | 第24-25页 |
| 2.2.7 外量子效率 | 第25-26页 |
| 3 射频磁控溅射制备AZO透明导电膜的研究 | 第26-37页 |
| 3.1 氩气压强对AZO薄膜性能的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.1 氩气压强对AZO薄膜沉积速率及电学性能的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.2 氩气压强对AZO薄膜光学性能的影响 | 第27页 |
| 3.2 氩气流量对AZO薄膜性能的影响 | 第27-29页 |
| 3.2.1 氩气流量对AZO薄膜电学性能的影响 | 第28页 |
| 3.2.2 氩气流量对AZO薄膜光学性能的影响 | 第28-29页 |
| 3.3 衬底与靶材间距对AZO薄膜性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.1 衬底与靶材间距对AZO薄膜电学性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.2 衬底与靶材间距对AZO薄膜光学性能的影响 | 第30页 |
| 3.4 AZO薄膜厚度对方块电阻的影响 | 第30-31页 |
| 3.5 常温条件下制备AZO薄膜的研究 | 第31-33页 |
| 3.6 AZO薄膜的氢化处理 | 第33-36页 |
| 3.6.1 衬底温度为150℃时AZO薄膜的氢化处理 | 第33-34页 |
| 3.6.2 常温条件下AZO薄膜的氢化处理 | 第34-35页 |
| 3.6.3 两种情况下氢化AZO薄膜的对比 | 第35-36页 |
| 3.7 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 AZO薄膜在薄膜太阳电池背反射电极中的应用 | 第37-41页 |
| 4.1 硅基薄膜太阳电池的工艺流程 | 第37-38页 |
| 4.2 AZO透明导电膜在硅基薄膜太阳电池中的应用 | 第38-40页 |
| 4.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 5 AZO衬底上生长石墨烯的研究 | 第41-45页 |
| 5.1 在硅片和石英片上制备石墨烯薄膜 | 第41-42页 |
| 5.2 在AZO薄膜表面生长石墨烯薄膜 | 第42-44页 |
| 5.2.1 实验步骤 | 第42页 |
| 5.2.2 薄膜材料的的表征 | 第42-44页 |
| 5.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 6 柔性衬底上制备AZO薄膜的研究 | 第45-48页 |
| 6.1 柔性透明导电膜简介 | 第45页 |
| 6.2 材料的制备与表征 | 第45-47页 |
| 6.2.1 聚酰亚胺衬底上AZO薄膜的制备 | 第45页 |
| 6.2.2 薄膜的表面形貌分析 | 第45-46页 |
| 6.2.3 薄膜的电学性能分析 | 第46页 |
| 6.2.4 薄膜的光学性能分析 | 第46-47页 |
| 6.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 7 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 作者简历 | 第53-55页 |
| 学位论文数据集 | 第55页 |
