| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 镜面偏转装置的研究与发展 | 第10-11页 |
| 1.2.2 超磁致伸缩材料的研究与发展 | 第11-12页 |
| 1.2.3 GMM磁致伸缩效应特性应用研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.4 超磁致伸缩致动器理论模型研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3 本课题的研究目的和意义 | 第18页 |
| 1.4 主要工作 | 第18-20页 |
| 第2章 GMM磁致伸缩正效应发生机理以及GMM特性 | 第20-30页 |
| 2.1 GMM磁致伸缩效应的微观机理 | 第20-23页 |
| 2.1.1 GMM的微观结构 | 第21-22页 |
| 2.1.2 GMM的磁致伸缩过程 | 第22-23页 |
| 2.2 GMM正效应机理 | 第23-24页 |
| 2.3 GMM的基本特性 | 第24-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 磁致伸缩镜面精密微位移偏转驱动机构的结构设计 | 第30-42页 |
| 3.1 磁致伸缩镜面精密微位移偏转驱动机构组成 | 第30页 |
| 3.2 GMA整体结构设计 | 第30-36页 |
| 3.2.1 GMA的磁路设计与分析 | 第33-35页 |
| 3.2.2 GMA的工作过程 | 第35-36页 |
| 3.3 磁致伸缩镜面精密微位移偏转驱动机构整体结构设计 | 第36-40页 |
| 3.3.1 磁致伸缩镜面精密微位移驱动机构工作原理 | 第36-37页 |
| 3.3.2 磁致伸缩镜面精密微位移驱动机构结构设计 | 第37-38页 |
| 3.3.3 位移放大机构的设计分析 | 第38-39页 |
| 3.3.4 磁致伸缩镜面精密微位移驱动机构工作过程 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 GMM棒输出位移与镜面偏转位移关系模型 | 第42-48页 |
| 4.1 GMA输出力及位移的数学模型 | 第42-45页 |
| 4.2 GMA的输出与镜面偏转位移的数学关系 | 第45-46页 |
| 4.3 模型验证 | 第46-47页 |
| 4.4 本章小节 | 第47-48页 |
| 第5章 实验测试与分析 | 第48-54页 |
| 5.1 磁致伸缩镜面精密微位移驱动机构实验平台的搭建 | 第48-49页 |
| 5.2 实验结果与分析 | 第49-53页 |
| 5.2.1 激励电流与磁场关系 | 第49-50页 |
| 5.2.2 预压力与GMA输出位移和镜面偏转位移关系 | 第50-51页 |
| 5.2.3 激励电流与GMA输出位移和镜面偏转位移的关系 | 第51-52页 |
| 5.2.4 GMA与镜面动态位移输出特性 | 第52-53页 |
| 5.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 第6章 结论 | 第54-56页 |
| 6.1 结论 | 第54页 |
| 6.2 展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 在学研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
