| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 氢能源概述 | 第13-15页 |
| 1.3 电解析氢反应 | 第15-17页 |
| 1.4 二硫化钼概述 | 第17-22页 |
| 1.4.1 二硫化钼的主要性质 | 第17-19页 |
| 1.4.2 二硫化钼的研究进展 | 第19-22页 |
| 1.5 纳米二硫化钼的性能优化 | 第22-30页 |
| 1.6 析氢催化剂目前面临的不足 | 第30页 |
| 1.7 本文研究的目的和研究内容 | 第30-33页 |
| 1.7.1 本文研究的目的 | 第30-31页 |
| 1.7.2 本文研究的内容 | 第31-33页 |
| 第二章 试剂与实验方法 | 第33-37页 |
| 2.1 实验试剂 | 第33-34页 |
| 2.2 表征方法 | 第34-35页 |
| 2.2.1 X射线衍射光谱（XRD） | 第34页 |
| 2.2.2 红外光谱（FTIR） | 第34页 |
| 2.2.3 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第34页 |
| 2.2.4 场发射透射电子显微镜（TEM） | 第34页 |
| 2.2.5 同步热分析（TG-DSC） | 第34页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第34页 |
| 2.2.7 拉曼光谱（Raman） | 第34-35页 |
| 2.2.8 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES） | 第35页 |
| 2.3 催化性能测试 | 第35-37页 |
| 2.3.1. 电化学性能测试系统 | 第35页 |
| 2.3.2. 工作电极的制作 | 第35页 |
| 2.3.3. 线性扫描伏安法（LSV） | 第35页 |
| 2.3.4. 塔菲尔曲线（Tafel） | 第35-36页 |
| 2.3.5. 交流阻抗谱（EIS） | 第36页 |
| 2.3.6. 循环伏安法（CV）与电容值计算（Cdl） | 第36页 |
| 2.3.7. 转化频率（TOF） | 第36-37页 |
| 第三章 原位模板法合成超薄二硫化钼电催化剂 | 第37-56页 |
| 3.1 引言 | 第37-39页 |
| 3.1.1 二硫化钼/碳模板法合成机理 | 第37-38页 |
| 3.1.2 二硫化钼/碳催化剂的制备方法 | 第38-39页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第39-51页 |
| 3.2.1 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第39-41页 |
| 3.2.2 场发射透射电子显微镜（TEM） | 第41-44页 |
| 3.2.3 X射线衍射光谱（XRD） | 第44-45页 |
| 3.2.4 拉曼光谱（Raman） | 第45-46页 |
| 3.2.5 X射线光电子能谱（XPS） | 第46页 |
| 3.2.6 线性扫描伏安法（LSV）和塔菲尔曲线（Tafel） | 第46-48页 |
| 3.2.7 交流阻抗谱（EIS） | 第48-49页 |
| 3.2.8 循环伏安（CV）与转化频率（TOF） | 第49-51页 |
| 3.2.9 稳定性 | 第51页 |
| 3.3 模板法的拓展应用 | 第51-55页 |
| 3.4 小结 | 第55-56页 |
| 第四章 反应物自保护策略设计高活性二硫化钼电催化剂 | 第56-81页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验部分 | 第57页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第57-68页 |
| 4.3.1 场发射扫描电镜（SEM） | 第57-58页 |
| 4.3.2 场发射透射电子显微镜（FT-TEM） | 第58-59页 |
| 4.3.3 X射线衍射光谱（XRD） | 第59-60页 |
| 4.3.4 红外分析（FT-IR） | 第60页 |
| 4.3.5 热重分析（TGA-DSC） | 第60-61页 |
| 4.3.6 X射线光电子能谱（XPS） | 第61-62页 |
| 4.3.7 元素分析（EA） | 第62-63页 |
| 4.3.8 线性扫描伏安法（LSV）& 塔菲尔曲线（Tafel） | 第63-65页 |
| 4.3.9 交流阻抗谱图（EIS） | 第65页 |
| 4.3.10 循环伏安法（CV） | 第65-67页 |
| 4.3.11 稳定性测试 | 第67-68页 |
| 4.4 自保护策略微波反应条件的影响因素 | 第68-76页 |
| 4.4.0 微波加热必要性 | 第68-69页 |
| 4.4.1 微波反应硫脲用量的影响 | 第69-71页 |
| 4.4.2 酸的种类对反应的影响 | 第71-73页 |
| 4.4.3 微波处理硫酸浓度的影响 | 第73页 |
| 4.4.4 微波处理温度的影响 | 第73-74页 |
| 4.4.5 微波处理时间的影响 | 第74-75页 |
| 4.4.6 影响因素小结 | 第75-76页 |
| 4.5 硫源对自保护策略的影响 | 第76-78页 |
| 4.6 二硫化钼负载型材料的应用 | 第78-80页 |
| 4.7 小结 | 第80-81页 |
| 第五章 其它二硫化钼复合材料 | 第81-85页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 二硫化钼/聚苯胺催化剂 | 第81-83页 |
| 5.2.1 实验部分 | 第81页 |
| 5.2.2 实验结果与讨论 | 第81-83页 |
| 5.3 二硫化钼/碳布催化剂 | 第83-84页 |
| 5.3.1 实验部分 | 第83-84页 |
| 5.3.2 电化学性能表征 | 第84页 |
| 5.4 小结 | 第84-85页 |
| 全文总结与工作展望 | 第85-87页 |
| 全文总结 | 第85-86页 |
| 工作展望 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-96页 |
| 作者简介 | 第96-97页 |
| 在学期间发表论文清单 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98页 |
