| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 AMOLED简介 | 第6-17页 |
| 1.1 OLED的发展历史 | 第6-8页 |
| 1.2 中国OLED产业主要生产企业 | 第8页 |
| 1.3 OLED显示原理 | 第8-11页 |
| 1.4 OLED发光部分的构造 | 第11-13页 |
| 1.5 AMOLED显示器的整体结构 | 第13-14页 |
| 1.6 OLED显示器制造流程 | 第14-17页 |
| 第二章 像素电极/反射层/ITO阳极相关的制造工艺 | 第17-31页 |
| 2.1 PVD工艺 | 第18-22页 |
| 2.2 光刻工艺 | 第22-25页 |
| 2.3 湿刻工艺 | 第25-31页 |
| 第三章 复合膜层蚀刻对于PVD成膜性能的要求 | 第31-41页 |
| 3.1 OLED工艺对于膜层的要求 | 第31-33页 |
| 3.2 提高复合膜层效果的PVD工艺改善 | 第33-38页 |
| 3.3 复合膜层成膜相对于蚀刻工艺的改善 | 第38-40页 |
| 3.4 复合膜层成膜条件的结论 | 第40-41页 |
| 第四章 复合膜层湿刻条件的验证 | 第41-56页 |
| 4.1 蚀刻药液的选择及试验室结果 | 第41-49页 |
| 4.2 产线调试及结果 | 第49-55页 |
| 4.3 总结 | 第55-56页 |
| 第五章 论文总结 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |