IC互连碳纳米管关键技术研究--高密度催化剂及定向碳纳米管的制备与表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·集成电路互连现状 | 第10-11页 |
| ·Cu 互连线的挑战 | 第11-12页 |
| ·碳纳米管的特性及其互连应用 | 第12-20页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第13-15页 |
| ·碳纳米管的电特性 | 第15-17页 |
| ·碳纳米管的热特性 | 第17-18页 |
| ·碳纳米管的互连应用 | 第18-20页 |
| ·碳纳米管互连的国内外研究现状 | 第20-21页 |
| ·碳纳米管互连的挑战 | 第21-22页 |
| ·本文主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验和测试 | 第24-32页 |
| ·高密度催化剂的制备 | 第24-27页 |
| ·碳纳米管的生长 | 第27-29页 |
| ·表征技术 | 第29-32页 |
| ·SEM 表征 | 第29-30页 |
| ·TEM 表征 | 第30-31页 |
| ·AFM 表征 | 第31页 |
| ·拉曼光谱表征 | 第31-32页 |
| 第三章 高密度催化剂制备及碳纳米管生长的研究 | 第32-47页 |
| ·磁控溅射制备催化剂颗粒及其对纳米管生长的影响 | 第32-35页 |
| ·不同膜厚对催化剂形成的影响 | 第33页 |
| ·不同处理功率对催化剂形成的影响 | 第33-34页 |
| ·基于磁控溅射制备催化剂的CNT 生长实验 | 第34-35页 |
| ·离子束溅射制备催化剂颗粒及其对纳米管生长的影响 | 第35-40页 |
| ·不同溅射方式对催化剂颗粒的影响 | 第35页 |
| ·不同种类催化剂对碳纳米管生长的影响 | 第35-37页 |
| ·不同加热速度对催化剂的影响 | 第37页 |
| ·不同处理功率对催化剂的影响 | 第37-38页 |
| ·不同厚度金属薄膜对催化剂及纳米管生长的影响 | 第38-40页 |
| ·碳纳米管生长参数的研究 | 第40-47页 |
| ·压强对碳纳米管生长的影响 | 第40-42页 |
| ·不同碳源对碳纳米管生长的影响 | 第42-43页 |
| ·不同温度对碳纳米管生长的影响 | 第43-45页 |
| ·碳纳米管的生长机制分析 | 第45-47页 |
| 第四章 碳纳米管互连分析 | 第47-55页 |
| ·碳纳米管互连线模型 | 第47-51页 |
| ·电阻 | 第47-49页 |
| ·电容 | 第49-50页 |
| ·电感 | 第50-51页 |
| ·碳纳米管互连线高频分析 | 第51-53页 |
| ·碳纳米管互连热特性分析 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
