| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 LB膜技术 | 第10页 |
| 1.2 LB膜发展背景及应用 | 第10-12页 |
| 1.2.1 LB膜发展背景 | 第10页 |
| 1.2.2 LB膜的应用 | 第10-12页 |
| 1.3 高分子LB膜 | 第12-14页 |
| 1.3.1 嵌段共聚物LB膜 | 第12-13页 |
| 1.3.2 高分子共混物LB膜 | 第13-14页 |
| 1.4 论文的研究目的、意义和内容 | 第14-15页 |
| 第2章 实验部分 | 第15-19页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第15-16页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第15页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第15-16页 |
| 2.2 实验方法 | 第16-18页 |
| 2.2.1 溶液配制 | 第16-17页 |
| 2.2.2 Langmuir单层的π-A等温实验 | 第17页 |
| 2.2.3 Langmuir单层的滞后实验 | 第17页 |
| 2.2.4 LB膜的沉积实验 | 第17-18页 |
| 2.2.5 LB膜的AFM表征 | 第18页 |
| 2.3 本章小结 | 第18-19页 |
| 第3章 PS12K/SMMA34K的Langmuir单层及其LB膜研究 | 第19-29页 |
| 3.1 溶剂对PS12K的Langmuir单层和LB膜的影响 | 第19-21页 |
| 3.1.1 PS12K的Langmuir单层研究 | 第19-20页 |
| 3.1.2 PS12K的原子力图 | 第20-21页 |
| 3.2 溶剂对SMMA34K的Langmuir单层和LB膜的影响 | 第21-24页 |
| 3.2.1 SMMA34K的Langmuir单层研究 | 第21-22页 |
| 3.2.2 SMMA34K的原子力图 | 第22-24页 |
| 3.3 组成对PS12K/SMMA34K的Langmuir单层和LB膜的影响 | 第24-28页 |
| 3.3.1 PS12K/SMMA34K的Langmuir单层研究 | 第24-26页 |
| 3.3.2 PS12K/SMMA34K的原子力图 | 第26-28页 |
| 3.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 高分子共混物Langmuir单层聚集机理研究 | 第29-42页 |
| 4.1 温度对PS12K-20 wt%的Langmuir单层和LB膜的影响 | 第29-32页 |
| 4.1.1 PS12K-20 wt%的Langmuir单层研究 | 第29-31页 |
| 4.1.2 PS12K-20 wt%的原子力高度图 | 第31-32页 |
| 4.2 浓度对PS12K-20 wt%的Langmuir单层和LB膜的影响 | 第32-36页 |
| 4.2.1 PS12K-20 wt%的Langmuir单层研究 | 第32-35页 |
| 4.2.2 PS12K-20 wt%的原子力高度图 | 第35-36页 |
| 4.3 滴加方式对PS12K-20 wt% Langmuir单层和LB膜的影响 | 第36-41页 |
| 4.3.1 分步滴加对PS12K-20 wt%的影响 | 第36-38页 |
| 4.3.2 二次滴加溶剂对PS12K-20 wt%的影响 | 第38-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-47页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
