| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 前言 | 第10-27页 |
| 1.1 半导体光催化发展概述 | 第10-18页 |
| 1.1.1 光催化研究背景 | 第10页 |
| 1.1.2 半导体光催化基本原理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 影响半导体光催化活性的因素 | 第12-15页 |
| 1.1.4 高效光催化剂的构建 | 第15-18页 |
| 1.2 ZnIn_2S_4基光催化剂的发展现状 | 第18-21页 |
| 1.2.1 硫铟锌合成方法 | 第19-20页 |
| 1.2.2 ZnIn_2S_4基光催化剂的改性及其在光催化领域的应用 | 第20-21页 |
| 1.3 金属有机框架材料(MOFs)简介 | 第21-24页 |
| 1.3.1 MOFs作为载体的催化反应 | 第23-24页 |
| 1.4 本论文的立题依据和研究内容 | 第24-27页 |
| 1.4.1 立题依据 | 第24-25页 |
| 1.4.2 研究内容和目标 | 第25-26页 |
| 1.4.3 论文特色和创新性 | 第26-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-32页 |
| 2.1 主要试剂 | 第27-28页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.3 实验内容 | 第29-32页 |
| 2.3.1 催化剂的表征 | 第29-32页 |
| 2.3.1.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第29页 |
| 2.3.1.2 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第29页 |
| 2.3.1.3 比表面分析(BET) | 第29页 |
| 2.3.1.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
| 2.3.1.5 场发射扫描电镜(SEM) | 第30页 |
| 2.3.1.6 透射电镜(TEM) | 第30页 |
| 2.3.1.7 电子顺磁共振谱(EPR) | 第30-31页 |
| 2.3.1.8 光电化学测试 | 第31-32页 |
| 第三章 ZnIn_2S_4/UiO-66复合光催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第32-43页 |
| 3.1 引言 | 第32-33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-35页 |
| 3.2.1 催化剂的制备 | 第33页 |
| 3.2.2 催化剂的表征 | 第33页 |
| 3.2.3 光催化性能评价 | 第33-35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-41页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射 | 第35页 |
| 3.3.2 光吸收性能分析 | 第35-36页 |
| 3.3.3 形貌分析 | 第36-37页 |
| 3.3.4 X射线光电子能谱 | 第37-38页 |
| 3.3.5 比表面积和孔结构分析 | 第38-39页 |
| 3.3.6 光催化性能评价 | 第39-41页 |
| 3.3.6.1 光催化选择性氧化苯甲醇 | 第39-40页 |
| 3.3.6.2 机理研究 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 ZnIn_2S_4/ZrO_2和RGO-ZnIn_2S_4/ZrO_2复合光催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第43-54页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 4.2.1 催化剂的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.2 催化剂的表征 | 第45页 |
| 4.2.3 光催化性能评价 | 第45页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第45-52页 |
| 4.3.1 X射线粉末衍射 | 第45-46页 |
| 4.3.2 光吸收性能分析 | 第46-47页 |
| 4.3.3 X射线光电子能谱 | 第47-48页 |
| 4.3.4 形貌分析 | 第48-49页 |
| 4.3.5 比表面积和孔结构分析 | 第49-50页 |
| 4.3.6 光催化性能评价 | 第50-51页 |
| 4.3.7 光电化学分析 | 第51-52页 |
| 4.3.7.1 光电流测试 | 第51页 |
| 4.3.7.2 电化学阻抗谱 | 第51-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论与展望 | 第54-56页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 个人简历 | 第66-67页 |
| 在读期间己发表和录用论文 | 第67页 |
