| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第11-13页 |
| 2 文献综述 | 第13-47页 |
| 2.1 自旋电子学 | 第13-16页 |
| 2.1.1 自旋电子学发展简介 | 第13-14页 |
| 2.1.2 磁电阻效应 | 第14-16页 |
| 2.2 平面霍尔效应 | 第16-29页 |
| 2.2.1 平面霍尔效应的应用 | 第17-28页 |
| 2.2.2 平面霍尔效应的影响因素 | 第28-29页 |
| 2.3 铁磁薄膜中的磁各向异性 | 第29-33页 |
| 2.3.1 形状磁各向异性 | 第29-30页 |
| 2.3.2 磁晶各向异性 | 第30-31页 |
| 2.3.3 磁弹各向异性 | 第31页 |
| 2.3.4 感生各向异性 | 第31-32页 |
| 2.3.5 界面各向异性 | 第32页 |
| 2.3.6 交换磁各向异性 | 第32-33页 |
| 2.4 铁磁薄膜的垂直磁各向异性 | 第33-45页 |
| 2.4.1 常用垂直磁各向异性材料 | 第34-42页 |
| 2.4.2 垂直磁各向异性的影响因素 | 第42-45页 |
| 2.5 研究目的与内容 | 第45-47页 |
| 3 样品制备和分析测试方法 | 第47-61页 |
| 3.1 样品制备 | 第47-51页 |
| 3.1.1 基片清洗 | 第47页 |
| 3.1.2 薄膜样品制备 | 第47-49页 |
| 3.1.3 样品的真空退火 | 第49页 |
| 3.1.4 元件制备方法 | 第49-51页 |
| 3.2 样品的分析与测试方法 | 第51-61页 |
| 3.2.1 薄膜厚度的测量 | 第52-53页 |
| 3.2.2 薄膜的磁性能测量 | 第53-54页 |
| 3.2.3 X射线衍射分析 | 第54-55页 |
| 3.2.4 高分辨率透射电子显微镜 | 第55-56页 |
| 3.2.5 X射线反射 | 第56-57页 |
| 3.2.6 X射线光电子能谱 | 第57-59页 |
| 3.2.7 原子力显微镜 | 第59-61页 |
| 4 氧化物插层对平面霍尔效应的影响研究 | 第61-67页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 实验方法 | 第61-62页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第62-66页 |
| 4.4 小结 | 第66-67页 |
| 5 界面粗糙度对平面霍尔效应的影响研究 | 第67-75页 |
| 5.1 引言 | 第67页 |
| 5.2 实验方法 | 第67-68页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第68-73页 |
| 5.4 小结 | 第73-75页 |
| 6 Au插层对平面霍尔效应的影响研究 | 第75-83页 |
| 6.1 引言 | 第75页 |
| 6.2 实验方法 | 第75-76页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第76-81页 |
| 6.4 小结 | 第81-83页 |
| 7 CoFeB/MgO结构垂直磁各向异性退火稳定性研究 | 第83-91页 |
| 7.1 引言 | 第83-84页 |
| 7.2 实验方法 | 第84页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第84-90页 |
| 7.4 小结 | 第90-91页 |
| 8 Co/Ni多层膜结构垂直磁各向异性退火稳定性研究 | 第91-99页 |
| 8.1 引言 | 第91页 |
| 8.2 实验方法 | 第91-92页 |
| 8.3 结果与讨论 | 第92-98页 |
| 8.4 小结 | 第98-99页 |
| 9 结论 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-123页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第123-128页 |
| 学位论文数据集 | 第128页 |