铽镓石榴石晶体磁光性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 前言 | 第7-15页 |
| 1.1 磁光效应 | 第7-8页 |
| 1.1.1 法拉第磁光效应 | 第7-8页 |
| 1.1.2 克尔磁光效应 | 第8页 |
| 1.1.3 塞曼磁光效应 | 第8页 |
| 1.2 磁光材料和磁光元件 | 第8-11页 |
| 1.2.1 磁光材料 | 第9页 |
| 1.2.2 磁光元件 | 第9-11页 |
| 1.3 铽镓石榴石磁光晶体 | 第11-13页 |
| 1.3.1 铽镓石榴石晶体优点 | 第11-12页 |
| 1.3.2 国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.4 选题依据和主要研究内容 | 第13-15页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第13页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 多晶原料的制备与表征 | 第15-34页 |
| 2.1 共沉淀法多晶原料制备与表征 | 第15-24页 |
| 2.1.1 实验药品与仪器设备 | 第15-16页 |
| 2.1.2 共沉淀法制备多晶原料 | 第16-17页 |
| 2.1.3 性能测试与分析 | 第17-24页 |
| 2.2 固相法多晶原料制备与表征 | 第24-32页 |
| 2.2.1 实验药品与仪器设备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 固相法制备多晶原料 | 第25-26页 |
| 2.2.3 性能测试与分析 | 第26-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 晶体生长与缺陷控制 | 第34-44页 |
| 3.1 提拉法生长晶体 | 第34-35页 |
| 3.1.1 常用的晶体生长方法 | 第34-35页 |
| 3.1.2 提拉法生长原理及优点 | 第35页 |
| 3.2 实验准备 | 第35-36页 |
| 3.2.1 坩埚选择 | 第35页 |
| 3.2.2 多晶原料合成 | 第35-36页 |
| 3.3 晶体生长 | 第36-40页 |
| 3.3.1 生长设备 | 第36-37页 |
| 3.3.2 生长过程 | 第37-39页 |
| 3.3.3 晶体照片 | 第39-40页 |
| 3.4 生长工艺与缺陷控制 | 第40-43页 |
| 3.4.1 生长工艺 | 第40-42页 |
| 3.4.2 缺陷控制 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 晶体性能测试与分析 | 第44-55页 |
| 4.1 性能测试与分析 | 第44-54页 |
| 4.1.1 晶体粉末与坩埚底料的XRD测试 | 第44-46页 |
| 4.1.2 晶体透过率测试 | 第46-47页 |
| 4.1.3 吸收率测试 | 第47-49页 |
| 4.1.4 X射线光电子能谱测试 | 第49-52页 |
| 4.1.5 晶体折射率测试 | 第52页 |
| 4.1.6 拉曼光谱测试 | 第52-53页 |
| 4.1.7 消光比测试 | 第53-54页 |
| 4.2 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 磁光性能测试与分析 | 第55-62页 |
| 5.1 磁光性能测试与计算 | 第55-59页 |
| 5.1.1 测试系统 | 第55-56页 |
| 5.1.2 法拉第旋角测量和费尔德常数计算 | 第56-57页 |
| 5.1.3 磁光优值计算 | 第57-58页 |
| 5.1.4 晶体易磁化方向的确定 | 第58-59页 |
| 5.2 顺磁材料费尔德常数影响因素分析 | 第59-61页 |
| 5.2.1 电偶极子有效跃迁 | 第59页 |
| 5.2.2 入射光波长 | 第59-60页 |
| 5.2.3 温度 | 第60-61页 |
| 5.2.4 材料本身的磁学性能 | 第61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
