| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 引言 | 第8-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-31页 |
| 1.1 塔器设备大型化过程中的放大效应 | 第11-16页 |
| 1.1.1 塔设备大型化发展 | 第11-12页 |
| 1.1.2 塔设备放大效应产生的原因 | 第12-15页 |
| 1.1.3 放大效应问题的改善及解决 | 第15-16页 |
| 1.2 气相射流理论研究 | 第16-28页 |
| 1.2.1 气相射流物理过程分析 | 第16-18页 |
| 1.2.2 气相射流过程影响因素分析 | 第18-21页 |
| 1.2.3 射流深度模型的建立 | 第21-27页 |
| 1.2.4 气相射流在工业上的应用 | 第27-28页 |
| 1.3 CFD数值模拟应用于气相射流过程 | 第28-30页 |
| 1.4 文献综述小结 | 第30-31页 |
| 第2章 静态液层单孔气相垂直射流研究 | 第31-50页 |
| 2.1 静态液层气相垂直射流实验 | 第31-37页 |
| 2.1.1 实验设备及研究方法 | 第31-32页 |
| 2.1.2 实验参数及测量方法 | 第32-33页 |
| 2.1.3 单孔射流气穴形成阶段 | 第33-34页 |
| 2.1.4 实验参数对射流深度的影响 | 第34-37页 |
| 2.2 CFD数值模拟研究气液物性对气相射流的影响 | 第37-46页 |
| 2.2.1 射流构型气液传质的适用体系分析 | 第38-40页 |
| 2.2.2 计算模型及相关控制参数的选择 | 第40-41页 |
| 2.2.3 单孔气相射流CFD模拟结果 | 第41-46页 |
| 2.3 单孔气相射流射流深度模型的建立 | 第46-48页 |
| 2.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第3章 气相射流构型精馏塔塔板的构建 | 第50-61页 |
| 3.1 气相射流构型精馏塔塔板构建 | 第50-52页 |
| 3.1.1 射流元件及射流塔板构型 | 第51-52页 |
| 3.1.2 射流构型塔板的有益效果 | 第52页 |
| 3.2 多孔气相射流CFD数值模拟优化结构 | 第52-58页 |
| 3.2.1 多孔气相射流计算模型 | 第52-53页 |
| 3.2.2 出口速度对多孔气相射流流场的影响 | 第53-57页 |
| 3.2.3 不同孔距对多孔气相射流流场的影响 | 第57-58页 |
| 3.2.4 射流元件构型及排布尺寸的确定 | 第58页 |
| 3.3 新型塔板与实验室前期构建气相射流塔板的对比 | 第58-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 流动液层多孔气相射流研究—塔板小试 | 第61-82页 |
| 4.1 流动液层多孔气相射流实验部分 | 第61-75页 |
| 4.1.1 实验设备 | 第61-62页 |
| 4.1.2 实验内容及测量方法 | 第62-63页 |
| 4.1.3 实验现象 | 第63-64页 |
| 4.1.4 板压降分析 | 第64-68页 |
| 4.1.5 板压降关联 | 第68-72页 |
| 4.1.6 板上液层高度分析 | 第72-74页 |
| 4.1.7 雾沫夹带及泄漏情况 | 第74-75页 |
| 4.2 流动液层多孔气相射流CFD模拟确定射流深度 | 第75-78页 |
| 4.2.1 三维两相数值模拟确定流动液层中气体射流深度 | 第76-77页 |
| 4.2.2 射流深度计算分析 | 第77-78页 |
| 4.3 射流构型塔板确定最优操作条件的方法推荐 | 第78-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 第5章 结论与展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 附录A 符号说明 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
