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表面工艺静电驱动MEMS变形镜关键技术研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第一章 绪论第13-26页
    1.1 研究工作的背景与意义第13-16页
        1.1.1 自适应光学原理及其应用领域第13页
        1.1.2 波前校正器的技术现状和发展趋势第13-16页
    1.2 静电驱动MEMS变形镜的国内外研究历史与现状第16-22页
        1.2.1 研究历史与现状第16-22页
        1.2.2 总结第22页
    1.3 MEMS工艺第22-24页
        1.3.1 体硅工艺(bulk micromachining process)第22-23页
        1.3.2 表面硅工艺(surface micromachining process)第23-24页
    1.4 本文的主要贡献与结构安排第24-26页
第二章 静电驱动MEMS变形镜理论基础第26-45页
    2.1 MEMS静电驱动器第26-40页
        2.1.1 平行板驱动器第27-32页
            2.1.1.1 静态和动态特性第27-30页
            2.1.1.2 非线性弹性梁第30-31页
            2.1.1.3 电极配置第31-32页
            2.1.1.4 杠杆原理第32页
            2.1.1.5 残余应力自组装第32页
        2.1.2 固支梁驱动器第32-35页
            2.1.2.1 静态和动态特性第32-34页
            2.1.2.2 分立下电极第34-35页
        2.1.3 预应力梳齿驱动器第35-36页
        2.1.4 排斥驱动器第36-40页
            2.1.4.1 静电排斥运动产生原理第36-37页
            2.1.4.2 两层电极阵列排布方式的静电力计算第37-40页
            2.1.4.3 排斥力平移驱动器第40页
    2.2 变形镜镜面第40-43页
        2.2.1 镜面分类及拟合误差第40-43页
        2.2.2 镜面刚度及交连值第43页
    2.3 本章小结第43-45页
第三章 大行程静电驱动器的理论、模拟和测试第45-69页
    3.1 六边形固支梁驱动器第45-49页
        3.1.1 结构设计与分析第45-47页
        3.1.2 基于六边形固支梁驱动器的MEMS变形镜加工与测试第47-49页
    3.2 三层电极排布方式排斥驱动器静电力数值计算第49-59页
        3.2.1 基于SC变换数值计算的三层电极排布静电力计算第49-56页
            3.2.1.1 固定电极间距较小时驱动力的求解第50-55页
            3.2.1.2 固定电极间距较大时驱动力的求解第55-56页
        3.2.2 基于SC变换数值计算的两层电极阵列排布静电力计算第56-57页
        3.2.3 基于SC变换数值计算的垂直梳齿驱动器静电力计算第57-59页
    3.3 伪三层电极排布方式静电排斥驱动器第59-67页
        3.3.1 结构设计及理论分析第59-63页
        3.3.2 器件测试及验证第63-67页
            3.3.2.1 理论建模与分析第64-66页
            3.3.2.2 实验测试及结果分析第66-67页
    3.4 本章小结第67-69页
第四章 释放孔对变形镜各项性能的影响研究第69-88页
    4.1 释放孔对驱动器动态特性的影响第69-78页
        4.1.1 穿孔板的挤压薄膜阻尼效应第70-71页
        4.1.2 驱动器的设计和加工第71-72页
        4.1.3 建模以及模型中的参数求解第72-75页
            4.1.3.1 弹簧常数求解第73-74页
            4.1.3.2 空气挤压薄膜的阻尼和刚度第74-75页
        4.1.4 驱动器动态特性理论分析与实验第75-78页
    4.2 释放孔对连续镜面的弯曲刚度的影响第78-87页
        4.2.1 存在释放孔时镜面的等效弹性常数第78-80页
        4.2.2 45单元连续镜面变形镜第80-87页
            4.2.2.1 结构设计及分析第80-83页
            4.2.2.2 性能与功能测试第83-85页
            4.2.2.3 静态像差校正实验第85-87页
    4.3 本章小结第87-88页
第五章 140单元实用化MEMS变形镜及其关键技术研究第88-108页
    5.1 变形镜结构设计第88-90页
    5.2 表面面形的进一步优化第90-104页
        5.2.1 具有残余应力的薄膜对镜面影响的理论分析第90-101页
            5.2.1.1 镜面建模第91-97页
            5.2.1.2 残余应力补偿对各项指标参数的影响第97-101页
        5.2.2 铬应力补偿层沉积—阴影掩模沉积工艺第101-103页
        5.2.3 镜面反射率的提高第103-104页
    5.3 140单元变形镜的封装与测试第104-107页
        5.3.1 封装第104-105页
        5.3.2 静态和动态特性测试第105-106页
        5.3.3 多单元变形实验和器件外壳第106-107页
    5.4 本章小结第107-108页
第六章 MEMS变形镜其它若干问题的优化改进措施的思考第108-126页
    6.1 可减少驱动器数量的新型分立倾斜式变形镜结构第108-112页
        6.1.1 结构设计第108-109页
        6.1.2 理论分析第109-111页
        6.1.3 实验测试第111-112页
    6.2 静电驱动MEMS变形镜驱动器的静电击穿及可靠性研究第112-118页
        6.2.1 场致电子发射效应第113-114页
        6.2.2 驱动器设计与加工第114-115页
        6.2.3 实验测试与讨论第115-118页
    6.3 优化分立镜面变形镜填充比的理论及实验研究第118-125页
        6.3.1 倒装芯片工艺及填充比优化第118-121页
        6.3.2 微缩束镜与分立镜面变形镜混合校正器第121-125页
    6.4 本章小结第125-126页
第七章 全文总结与展望第126-128页
    7.1 全文总结第126-127页
    7.2 后续工作展望第127-128页
致谢第128-129页
参考文献第129-139页
攻读博士学位期间取得的成果第139-141页

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