| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 CMP技术简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 CMP技术发展及国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.3 复合磨粒CMP及研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 磁场辅助精密加工技术 | 第13-16页 |
| 1.4 MCA-CMP简介 | 第16-17页 |
| 1.5 本论文主要研究目的及内容 | 第17-18页 |
| 1.6 本章小结 | 第18-19页 |
| 第2章 适合MCA-CMP的脉冲磁场发生装置 | 第19-37页 |
| 2.1 脉冲磁场辅助复合磨粒CMP实验装置设计思想 | 第19页 |
| 2.2 电磁学基本知识 | 第19-23页 |
| 2.2.1 磁矩m_i和磁化强度M | 第19-20页 |
| 2.2.2 磁场强度H和磁感应强度B | 第20页 |
| 2.2.3 麦克斯韦方程 | 第20-21页 |
| 2.2.4 磁路基本理论 | 第21-22页 |
| 2.2.5 磁性材料基本性质 | 第22-23页 |
| 2.3 磁场发生装置的设计 | 第23-30页 |
| 2.3.1 脉冲磁场发生系统 | 第23-25页 |
| 2.3.2 实验装置总体结构 | 第25-27页 |
| 2.3.3 磁路工程设计 | 第27-30页 |
| 2.4 电磁发生装置的有限元模拟分析 | 第30-36页 |
| 2.4.1 ANSYS软件及电磁场模块简介 | 第30页 |
| 2.4.2 三维静态磁场分析 | 第30-32页 |
| 2.4.3 模拟结果与分析 | 第32-35页 |
| 2.4.4 模拟结果与实际情况的比较 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 磁场作用下磁性微球分布形态研究 | 第37-57页 |
| 3.1 磁性微球及所受磁力 | 第37-39页 |
| 3.1.1 磁性聚合物微球简介 | 第37页 |
| 3.1.2 磁性微球所受磁力 | 第37-39页 |
| 3.2 磁性微球受力分析 | 第39-41页 |
| 3.3 实验方案及设备 | 第41-44页 |
| 3.3.1 实验目的及原理 | 第41页 |
| 3.3.2 高速摄影设备 | 第41-42页 |
| 3.3.3 实验平台 | 第42-44页 |
| 3.3.4 实验方案 | 第44页 |
| 3.4 实验结果分析 | 第44-51页 |
| 3.4.1 磁场对磨粒分布的影响 | 第45-48页 |
| 3.4.2 磁场大小对磨粒分布的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.3 磨粒的聚集 | 第49-50页 |
| 3.4.4 脉冲磁场下磁性微球的分布状态 | 第50-51页 |
| 3.5 磨粒运动轨迹的流场模拟 | 第51-56页 |
| 3.5.1 流体有限元软件FLUENT简介 | 第51-52页 |
| 3.5.2 离散相模型概述 | 第52页 |
| 3.5.3 模型建立及求解 | 第52-53页 |
| 3.5.4 求解结果及分析 | 第53-56页 |
| 3.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 脉冲磁场下磁性复合磨粒CMP实验 | 第57-65页 |
| 4.1 试验设备及材料 | 第57-58页 |
| 4.1.1 实验设备 | 第57-58页 |
| 4.1.2 实验材料 | 第58页 |
| 4.2 试验方法 | 第58-60页 |
| 4.3 试验安排 | 第60-61页 |
| 4.4 试验结果与分析 | 第61-63页 |
| 4.4.1 脉冲磁场辅助复合磨粒CMP可行性验证 | 第61-62页 |
| 4.4.2 脉冲磁场频率对抛光去除率的影响 | 第62-63页 |
| 4.4.3 脉冲磁场占空比对抛光去除率的影响 | 第63页 |
| 4.5 抛光后工件表面质量 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第70页 |