摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-38页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 聚集诱导发光 | 第12-13页 |
1.3 聚集诱导发光机理 | 第13-21页 |
1.3.1 分子内旋转受限(RIR)机理 | 第13-17页 |
1.3.2 分子内振动受限(RIV)机理 | 第17-19页 |
1.3.3 分子内运动受限(RIM)机理 | 第19-21页 |
1.4 聚集诱导发光分子体系 | 第21-37页 |
1.4.1 四苯基乙烯类衍生物 | 第22-31页 |
1.4.2 噻咯类衍生物 | 第31-35页 |
1.4.3 其他AIE分子体系 | 第35-37页 |
1.5 本课题的提出与意义 | 第37-38页 |
第二章 基于四苯基吡嗪噻吩类衍生物合成路线的优化改进及其性能研究 | 第38-58页 |
2.1 引言 | 第38-39页 |
2.2 实验部分 | 第39-45页 |
2.2.1 化学试剂 | 第39页 |
2.2.2 表征仪器与设备 | 第39页 |
2.2.3 优化改进合成路线 | 第39-44页 |
2.2.4 化合物的合成 | 第44-45页 |
2.3 结果与讨论 | 第45-49页 |
2.3.1 吸收和发射光谱 | 第45-46页 |
2.3.2 聚集诱导发光(AIE) | 第46-48页 |
2.3.3 理论计算 | 第48-49页 |
2.4 本章小结 | 第49-51页 |
本章附录 | 第51-58页 |
第三章 四苯基吡嗪构效关系研究 | 第58-102页 |
3.1 引言 | 第58页 |
3.2 实验部分 | 第58-64页 |
3.2.1 化学试剂 | 第58-59页 |
3.2.2 表征设备与仪器 | 第59页 |
3.2.3 化合物的合成 | 第59-64页 |
3.2.4 单晶的生长 | 第64页 |
3.3 结果与讨论 | 第64-79页 |
3.3.1 晶体结构 | 第64-65页 |
3.3.2 热稳定性 | 第65-66页 |
3.3.3 光物理性质 | 第66-68页 |
3.3.4 理论计算 | 第68-73页 |
3.3.5 电致发光器件 | 第73-78页 |
3.3.6 ROS杀菌 | 第78-79页 |
3.4 本章小结 | 第79-81页 |
本章附录 | 第81-102页 |
第四章 四苯基吡嗪全色谱荧光材料及其多功能应用 | 第102-123页 |
4.1 引言 | 第102页 |
4.2 实验部分 | 第102-105页 |
4.2.1 化学试剂 | 第102-103页 |
4.2.2 表征设备与仪器 | 第103页 |
4.2.3 化合物的合成 | 第103-105页 |
4.3 结果与讨论 | 第105-114页 |
4.3.1 热稳定性 | 第105-106页 |
4.3.2 光物理性质 | 第106-109页 |
4.3.3 理论计算 | 第109-111页 |
4.3.4 力致变色 | 第111-112页 |
4.3.5 电致发光器件 | 第112-114页 |
4.4 本章小结 | 第114-116页 |
本章附录 | 第116-123页 |
结论与展望 | 第123-125页 |
主要结论 | 第123页 |
展望 | 第123-125页 |
参考文献 | 第125-140页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第140-141页 |
致谢 | 第141-143页 |
附件 | 第143页 |