| 论文主要创新点 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 引言 | 第12-15页 |
| §1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 本文主要工作及内容安排 | 第13-15页 |
| 第二章 绪论 | 第15-29页 |
| 本章概要 | 第15页 |
| §2.1 纳米材料的性质、应用前景及生长机理 | 第15-21页 |
| 2.1.1 纳米材料的性质与应用前景 | 第15-18页 |
| 2.1.2 纳米材料的生长机理 | 第18-21页 |
| §2.2 钨青铜纳米材料的制备及形貌调控 | 第21-27页 |
| 2.2.1 钨青铜纳米材料的制备方法 | 第21-24页 |
| 2.2.2 生长环境相对晶体形貌的影响 | 第24-27页 |
| §2.3 材料的力学性能 | 第27-29页 |
| 第三章 预备知识综述 | 第29-47页 |
| 本章概要 | 第29页 |
| §3.1 钾钨青铜的晶体结构 | 第29-34页 |
| 3.1.1 钾钨青铜的基本结构 | 第29-31页 |
| 3.1.2 钾钨青铜结构中的有序 | 第31-33页 |
| 3.1.3 共生钾钨青铜结构 | 第33-34页 |
| §3.2 透射电子显微学方法 | 第34-41页 |
| 3.2.1 透射电子显微镜的基本构造及原理 | 第35-38页 |
| 3.2.2 选区电子衍射 | 第38-39页 |
| 3.2.3 高分辨透射电子显微术 | 第39-40页 |
| 3.2.4 原位透射电子显微学 | 第40-41页 |
| §3.3 实验仪器及方法 | 第41-43页 |
| 3.3.1 透射电子显微镜 | 第41-42页 |
| 3.3.2 原位力学测试系统 | 第42-43页 |
| §3.4 透射电子显微术在纳米材料研究中的应用 | 第43-47页 |
| 第四章 K_xWO_3纳米片中的有序及畴结构的表征 | 第47-64页 |
| 本章概要 | 第47页 |
| §4.1 引言 | 第47-48页 |
| §4.2 K_xWO_3纳米片的合成及样品制备 | 第48-49页 |
| §4.3 K_xWO_3纳米片的初步电子显微学研究 | 第49-62页 |
| 4.3.1 样品的形貌及成分分析 | 第49-51页 |
| 4.3.2 K_xWO_3纳米片的显微结构 | 第51-55页 |
| 4.3.3 K_xWO_3纳米片中的畴结构 | 第55-62页 |
| §4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 K_xWO_3纳米结构从纳米线到纳米片演变过程中的无序和有序 | 第64-76页 |
| 本章概要 | 第64页 |
| §5.1 引言 | 第64-65页 |
| §5.2 K_xWO_3纳米棒的合成与制备 | 第65页 |
| §5.3 K_xWO_3纳米棒的微结构表征 | 第65-69页 |
| 5.3.1 K_xWO_3纳米棒的形貌和成分分析 | 第65-66页 |
| 5.3.2 K_xWO_3纳米棒的基本结构 | 第66-69页 |
| §5.4 K_xWO_3纳米材料生长的取向附着机制 | 第69-74页 |
| §5.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第六章 K_xWO_3纳米材料弹性形变的原位观察 | 第76-88页 |
| 本章概要 | 第76页 |
| §6.1 引言 | 第76-78页 |
| §6.2 原位弯曲纳米棒的方法 | 第78-80页 |
| §6.3 K_xWO_3纳米棒在原位弯曲下的弹性形变 | 第80-83页 |
| §6.4 K_xWO_3纳米片弹性形变的各向异性 | 第83-86页 |
| §6.5 本章小结 | 第86-88页 |
| 第七章 总结与展望 | 第88-91页 |
| §7.1 主要研究成果 | 第88-89页 |
| §7.2 展望 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-113页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第113-116页 |
| 致谢 | 第116-117页 |
