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表面等离子体激元传输线及在片电感的研究与设计

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 选题背景第9-14页
        1.1.1 国内外硅基毫米波传输线研究现况及趋势第10-12页
        1.1.2 表面等离子体激元研究现状第12-13页
        1.1.3 在片电感的研究现状第13-14页
    1.2 本文研究的主要内容第14页
    1.3 本文组织结构第14-16页
第二章 毫米波硅基片上传输线研究第16-39页
    2.1 传输线主要性能指标第16-20页
        2.1.1 传输线设计的主要参数第16-18页
        2.1.2 基于S参数的传输线参数提取第18-20页
    2.2 建模仿真软件及加工工艺第20-23页
        2.2.1 ANSYS公司HFSS仿真软件介绍第20页
        2.2.2 CMOS工艺介绍第20-23页
    2.3 片上传输线的研究与实现第23-31页
        2.3.1 CMOS工艺下传输线的结构和分析第23-28页
        2.3.2 ANN网络和建模第28-31页
    2.4 基于ANN的传输线建模分析第31-38页
    2.5 本章小结第38-39页
第三章 表面等离子激元的原理第39-45页
    3.1 表面等离子激元的介绍第39-40页
    3.2 表面等离子体激元的数值求解方法第40页
    3.3 表面等离子体激元的色散关系与产生原理第40-44页
        3.3.1 色散公式的推导第41-43页
        3.3.2 产生原理和激励方式第43页
        3.3.3 表面等离子体激元的参量第43-44页
    3.4 本章小结第44-45页
第四章 人工表面等离子体激元传输线的设计第45-62页
    4.1 人工金属表面SPPs第45-47页
        4.1.1 人工金属表面SPPs相关介绍第45-46页
        4.1.2 人工SPPs的色散曲线第46-47页
    4.2 仿真软件和BICMOS工艺第47-50页
        4.2.1 CST仿真软件介绍第47-48页
        4.2.2 BiCMOS工艺介绍第48-50页
    4.3 SSPPs传输线单元结构的设计第50-55页
        4.3.1 色散曲线第51-52页
        4.3.2 场分布图第52-54页
        4.3.3 传播长度第54-55页
    4.4 人工表面等离子体激元传输线设计第55-57页
    4.5 加工和测试结果第57-60页
    4.6 本章小结第60-62页
第五章 在片电感的研究第62-76页
    5.1 毫米波频段在片电感的设计第62-64页
        5.1.1 在片螺旋电感的结构第62-63页
        5.1.2 在片螺旋电感的主要参数第63-64页
    5.2 在片螺旋电感的等效电路模型第64-67页
        5.2.1 单个电感等效电路模型第64-66页
        5.2.2 相邻电感等效电路模型第66-67页
    5.3 在片电感模型验证第67-75页
        5.3.1 单个电感模型验证第67-71页
        5.3.2 相邻电感对模型验证第71-75页
    5.4 本章小结第75-76页
第六章 总结与展望第76-78页
参考文献第78-83页
致谢第83-84页
攻读学位期间发表的学术论文目录第84页

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