表面等离子体激元传输线及在片电感的研究与设计
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-16页 |
1.1 选题背景 | 第9-14页 |
1.1.1 国内外硅基毫米波传输线研究现况及趋势 | 第10-12页 |
1.1.2 表面等离子体激元研究现状 | 第12-13页 |
1.1.3 在片电感的研究现状 | 第13-14页 |
1.2 本文研究的主要内容 | 第14页 |
1.3 本文组织结构 | 第14-16页 |
第二章 毫米波硅基片上传输线研究 | 第16-39页 |
2.1 传输线主要性能指标 | 第16-20页 |
2.1.1 传输线设计的主要参数 | 第16-18页 |
2.1.2 基于S参数的传输线参数提取 | 第18-20页 |
2.2 建模仿真软件及加工工艺 | 第20-23页 |
2.2.1 ANSYS公司HFSS仿真软件介绍 | 第20页 |
2.2.2 CMOS工艺介绍 | 第20-23页 |
2.3 片上传输线的研究与实现 | 第23-31页 |
2.3.1 CMOS工艺下传输线的结构和分析 | 第23-28页 |
2.3.2 ANN网络和建模 | 第28-31页 |
2.4 基于ANN的传输线建模分析 | 第31-38页 |
2.5 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 表面等离子激元的原理 | 第39-45页 |
3.1 表面等离子激元的介绍 | 第39-40页 |
3.2 表面等离子体激元的数值求解方法 | 第40页 |
3.3 表面等离子体激元的色散关系与产生原理 | 第40-44页 |
3.3.1 色散公式的推导 | 第41-43页 |
3.3.2 产生原理和激励方式 | 第43页 |
3.3.3 表面等离子体激元的参量 | 第43-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-45页 |
第四章 人工表面等离子体激元传输线的设计 | 第45-62页 |
4.1 人工金属表面SPPs | 第45-47页 |
4.1.1 人工金属表面SPPs相关介绍 | 第45-46页 |
4.1.2 人工SPPs的色散曲线 | 第46-47页 |
4.2 仿真软件和BICMOS工艺 | 第47-50页 |
4.2.1 CST仿真软件介绍 | 第47-48页 |
4.2.2 BiCMOS工艺介绍 | 第48-50页 |
4.3 SSPPs传输线单元结构的设计 | 第50-55页 |
4.3.1 色散曲线 | 第51-52页 |
4.3.2 场分布图 | 第52-54页 |
4.3.3 传播长度 | 第54-55页 |
4.4 人工表面等离子体激元传输线设计 | 第55-57页 |
4.5 加工和测试结果 | 第57-60页 |
4.6 本章小结 | 第60-62页 |
第五章 在片电感的研究 | 第62-76页 |
5.1 毫米波频段在片电感的设计 | 第62-64页 |
5.1.1 在片螺旋电感的结构 | 第62-63页 |
5.1.2 在片螺旋电感的主要参数 | 第63-64页 |
5.2 在片螺旋电感的等效电路模型 | 第64-67页 |
5.2.1 单个电感等效电路模型 | 第64-66页 |
5.2.2 相邻电感等效电路模型 | 第66-67页 |
5.3 在片电感模型验证 | 第67-75页 |
5.3.1 单个电感模型验证 | 第67-71页 |
5.3.2 相邻电感对模型验证 | 第71-75页 |
5.4 本章小结 | 第75-76页 |
第六章 总结与展望 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-83页 |
致谢 | 第83-84页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第84页 |