提要 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-8页 |
Abstract | 第8-11页 |
第一章 前言 | 第16-49页 |
1.1 多金属氧酸盐的概述 | 第16-19页 |
1.2 表面修饰的多金属氧酸盐 | 第19-28页 |
1.2.1 金属有机化合物修饰的多金属氧酸盐 | 第19-23页 |
1.2.2 帽式修饰的多金属氧酸盐 | 第23-25页 |
1.2.3 有机基团共价修饰的多金属氧酸盐 | 第25-28页 |
1.3 基于多金属氧酸盐和金属-有机配合物的晶体工程 | 第28-40页 |
1.3.1 多金属氧酸盐为模板构筑的复合物结构 | 第28-34页 |
1.3.2 多金属氧酸盐为配体构筑的拓展结构 | 第34-39页 |
1.3.3 多金属氧酸盐诱导的手性复合物结构 | 第39-40页 |
1.4 本论文的选题思路 | 第40-41页 |
参考文献 | 第41-49页 |
第二章 基于多金属氧酸盐与1,4-二(吡唑甲基)苯(L1)及铜配合物构筑的拓展结构 | 第49-84页 |
2.1 引言 | 第49-50页 |
2.2 合成与晶体结构解析 | 第50-56页 |
2.3 结构描述与讨论 | 第56-70页 |
2.3.1 [CU_3~I(L1)_4][PW_(12)O_(40)](1)和[Cu_3~I(L1)_4][PMo_(12)O_(40)](2)的晶体结构 | 第56-58页 |
2.3.2 [Cu_3~I(L1)_4][PW_(12)O_(40)](3)的晶体结构 | 第58-59页 |
2.3.3 [Cu_3~I(L1)_3][PW_(12)O_(40)](4)的晶体结构 | 第59-61页 |
2.3.4 [Cu_4~I(L1)_5(HL)][BW_(12)O_(40)](5)的晶体结构 | 第61-62页 |
2.3.5 [Cu_5~I(L1)_5][BW_(12)O_(40)](6)的晶体结构 | 第62-64页 |
2.3.6 [Cu_2~I(L1)_2][Mo_6O_(19)](7)的晶体结构 | 第64-70页 |
2.4 表征 | 第70-76页 |
2.4.1 红外光谱 | 第70-72页 |
2.4.2 X射线粉末衍射 | 第72-74页 |
2.4.3 X光电子能谱 | 第74-76页 |
2.5 电化学性质 | 第76-78页 |
2.6 表面光电压性质 | 第78-80页 |
2.7 本章小结 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
第三章 多金属氧酸盐为模板诱导1,4-二(吡唑甲基)苯(L1)与铜配合物形成环状或棒状阳离子结构 | 第84-112页 |
3.1 引言 | 第84-85页 |
3.2 合成与晶体结构解析 | 第85-91页 |
3.3 结构描述与讨论 | 第91-102页 |
3.3.1 [Cu_3~I(L1)_3]_2[PMo_(12)O_(40)]_2(8)的晶体结构 | 第91-92页 |
3.3.2 [Cu_4~I4(L1)_4][XMo_(12)O_(40)](9),[Cu_4~I(L1)_4][SiW_(12)O_(40)](10)和[Cu_4~I(L1)_4][GeMo_(12)O_(40)](11)的晶体结构 | 第92-94页 |
3.3.3 [Cu_8~I(L1)_7(HL)_2][BW_(12)O_(40)]_2(12)的晶体结构 | 第94-95页 |
3.3.4 [Cu_4~I(L1)_4][SiW_(12)O_(40)](13)的晶体结构 | 第95-102页 |
3.4 表征 | 第102-106页 |
3.4.1 红外光谱 | 第102-103页 |
3.4.2 X射线粉末衍射 | 第103-104页 |
3.4.3 X光电子能谱 | 第104-105页 |
3.4.4 热重分析 | 第105-106页 |
3.5 电化学性质 | 第106-108页 |
3.6 表面光电压性质 | 第108-109页 |
3.7 本章小结 | 第109-110页 |
参考文献 | 第110-112页 |
第四章 基于多金属氧酸盐与4,4'-二(吡唑甲基)联苯(L2)或4,4'-二(咪唑甲基)联苯(L3)及铜配合物的晶体工程 | 第112-140页 |
4.1 引言 | 第112-113页 |
4.2 合成与晶体结构解析 | 第113-119页 |
4.3 结构描述与讨论 | 第119-130页 |
4.3.1 [Cu_3~I(L2)_3][PMo_(12)O_(40)](14)的晶体结构 | 第119-120页 |
4.3.2 [Cu_3~I(L3)_3][PMo_(12)O_(40)](15)的晶体结构 | 第120-122页 |
4.3.3 [Cu_4~I(L2)_4][SiW_(12)O_(40)]·CH_3CH_20H(16)的晶体结构 | 第122-123页 |
4.3.4 [Cu_4~I(L2)_4][SiW_(12)O_(40)](17)的晶体结构 | 第123-124页 |
4.3.5 [Cu_3~I(L2)_4][PW_(12)O_(40)](18)和[Cu_3~I(L2)_4][PMo_(12)O_(40)](19)的晶体结构 | 第124-130页 |
4.4 表征 | 第130-133页 |
4.4.1 红外光谱 | 第130-131页 |
4.4.2 X光电子能谱 | 第131-133页 |
4.5 电化学性质 | 第133-135页 |
4.6 表面光电压性质 | 第135页 |
4.7 本章小结 | 第135-137页 |
参考文献 | 第137-140页 |
第五章 结论 | 第140-143页 |
附录 | 第143-144页 |
作者简历 | 第144-147页 |
已发表论文 | 第144-146页 |
会议论文 | 第146页 |
待发表论文 | 第146-147页 |
致谢 | 第147-148页 |