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纳米钴团簇在氧化铝载体上成核机制研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第12-20页
    1.1 研究背景第12页
    1.2 费托合成催化剂第12-15页
        1.2.1 催化剂活性金属第12-14页
        1.2.2 催化剂载体第14-15页
    1.3 费托合成钴基氧化铝催化剂第15-17页
    1.4 选题依据第17-18页
    1.5 研究目标及内容第18-19页
        1.5.1 研究目标第18页
        1.5.2 研究内容第18-19页
    1.6 本课题的研究意义第19-20页
第二章 理论基础和计算方法第20-26页
    2.1 密度泛函理论基础第20-21页
        2.1.1 Thomas-Fermi模型第20-21页
        2.1.2 Hohenberg-Kohn定理第21页
        2.1.3 Kohn-Sham方程第21页
    2.2 周期性超原胞模型及平面波方法第21-23页
        2.2.1 布洛赫定理第22页
        2.2.2 平面波方法第22-23页
        2.2.3 截断能的选取原则第23页
    2.3 赝势理论第23页
    2.4 过渡态理论第23-24页
    2.5 VASP软件包简介第24-26页
第三章 α-Al_2O_3表面的选择第26-40页
    3.1 引言第26页
    3.2 α-Al_2O_3晶体结构和形貌第26-28页
        3.2.1 计算方法第26页
        3.2.2 计算结果与讨论第26-28页
        3.2.3 小结第28页
    3.3 α-Al_2O_3 (0001) 表面第28-30页
        3.3.1 计算方法第28-29页
        3.3.2 不同 α-Al_2O_3 (0001)表面模型第29-30页
    3.4 单个钴原子在Al-端 α-Al_2O_3(0001)面的吸附第30-37页
        3.4.1 计算方法第30页
        3.4.2 α-Al_2O_3(0001)表面第30-32页
        3.4.3 钴原子在 α-Al_2O_3(0001)表面的吸附第32-36页
        3.4.4 差分电荷密度及Bader电荷第36-37页
    3.5 小结第37-40页
第四章 Co_n团簇在 α-Al_2O_3(0001)表面的生长成核第40-62页
    4.1 引言第40页
    4.2 Co_n团簇的计算第40-43页
        4.2.1 计算方法和模型第40-41页
        4.2.2 计算结果与讨论第41-43页
    4.3 Co_n(n=2-7)团簇在 α-Al_2O_3(0001)表面的吸附第43-56页
        4.3.1 计算方法第43-45页
        4.3.2 Co_n(n=2-7)团簇在 α-Al_2O_3(0001)表面的稳定吸附结构第45-49页
        4.3.3 Co_n(n=2-7)团簇在 α-Al_2O_3(0001)表面的生长成核第49-50页
        4.3.4 最稳定Co_n/α-Al_2O_3(0001)结构的Bader电荷和差分电荷密度分析第50-54页
        4.3.5 最稳定Co_n/α-Al_2O_3(0001)结构的电子态密度分析第54-56页
    4.4 Co_n(n=1-3)团簇在 α-Al_2O_3(0001)表面的迁移第56-59页
    4.5 小结第59-62页
第五章 CO在Co_4/Al_2O_3(0001)催化剂表面的吸附第62-68页
    5.1 引言第62页
    5.2 计算方法第62页
    5.3 CO在Co_4/α-Al_2O_3催化剂的吸附第62-64页
    5.4 差分电荷密度和电子态密度分析第64-67页
    5.5 小结第67-68页
第六章 结论与展望第68-70页
符号说明第70-72页
参考文献第72-82页
硕士期间发表论文第82-84页
致谢第84-85页

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