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钒酸铁和钒酸铋的制备及气敏性能研究

摘要第5-6页
ABSTRAGT第6-7页
第1章 绪论第10-26页
    1.1 气体传感器概述第10-12页
        1.1.1 气体传感器发展概况第10-11页
        1.1.2 气体传感器分类第11-12页
    1.2 金属氧化物半导体材料的气敏性原理第12-14页
    1.3 三元金属氧化物气敏材料第14-17页
        1.3.1 三元金属氧化物气敏材料的研究背景第15-16页
        1.3.2 钒酸铁的研究现状第16页
        1.3.3 钒酸铋的研究现状第16-17页
    1.4 三元金属氧化物的制备方法第17-20页
    1.5 三元金属氧化物纳米材料的表征方法第20-22页
    1.6 气敏测试的主要指标第22-24页
    1.7 本文选题意义及主要研究类容第24-26页
第2章 FeVO_4材料的制备及气敏性能的研究第26-44页
    2.1 实验部分第26-29页
        2.1.1 实验试剂第26-27页
        2.1.2 实验仪器第27-28页
        2.1.3 FeVO_4材料的制备第28-29页
    2.2 气敏器件的制备与气敏性能的测试第29-30页
        2.2.1 旁热式气体敏感器件的工作原理第29页
        2.2.2 旁热式气体敏感器件的制作第29-30页
        2.2.3 气敏器件的测试第30页
    2.3 FeVO_4形貌特征分析第30-39页
        2.3.1 反应温度对FeVO_4合成的影响第30-32页
        2.3.2 反应时间对FeVO_4合成的影响第32-34页
        2.3.3 pH值对FeVO_4合成的影响第34-39页
    2.4 气敏性能测试第39-42页
        2.4.1 不同工作温度对气敏性能的影响第39-40页
        2.4.2 不同气体浓度对气敏性能的影响第40-41页
        2.4.3 响应恢复性能分析第41-42页
    2.5 本章小结第42-44页
第3章 BiVO_4材料的制备、改性及气敏性能的研究第44-68页
    3.1 实验部分第44-48页
        3.1.1 实验试剂第44-45页
        3.1.2 实验仪器第45-46页
        3.1.3 BiVO_4气敏材料的制备第46-47页
        3.1.4 BiVO_4气敏材料的改性第47-48页
    3.2 BiVO_4材料的形貌结构特征与气敏分析第48-56页
        3.2.1 扫描电子显微镜分析第48-49页
        3.2.2 X射线衍射图谱(XRD)分析第49-50页
        3.2.3 X射线光电子能谱(XPS)分析第50-51页
        3.2.4 拉曼(Raman)光谱分析第51-52页
        3.2.5 比表面积分析(BET)第52-53页
        3.2.6 BiVO_4材料气敏性能分析第53-56页
    3.3 金属掺杂BiVO_4材料的形貌特征与气敏分析第56-66页
        3.3.1 扫描电子显微镜分析第56-57页
        3.3.2 X射线衍射图谱(XRD)分析第57-59页
        3.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析第59-60页
        3.3.4 金属掺杂BiVO_4的气敏性能第60-66页
    3.4 本章小结第66-68页
第4章 结论与展望第68-70页
    4.1 结论第68-69页
    4.2 展望第69-70页
参考文献第70-76页
致谢第76-77页
作者简介第77页

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