摘要 | 第5-6页 |
ABSTRAGT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 气体传感器概述 | 第10-12页 |
1.1.1 气体传感器发展概况 | 第10-11页 |
1.1.2 气体传感器分类 | 第11-12页 |
1.2 金属氧化物半导体材料的气敏性原理 | 第12-14页 |
1.3 三元金属氧化物气敏材料 | 第14-17页 |
1.3.1 三元金属氧化物气敏材料的研究背景 | 第15-16页 |
1.3.2 钒酸铁的研究现状 | 第16页 |
1.3.3 钒酸铋的研究现状 | 第16-17页 |
1.4 三元金属氧化物的制备方法 | 第17-20页 |
1.5 三元金属氧化物纳米材料的表征方法 | 第20-22页 |
1.6 气敏测试的主要指标 | 第22-24页 |
1.7 本文选题意义及主要研究类容 | 第24-26页 |
第2章 FeVO_4材料的制备及气敏性能的研究 | 第26-44页 |
2.1 实验部分 | 第26-29页 |
2.1.1 实验试剂 | 第26-27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27-28页 |
2.1.3 FeVO_4材料的制备 | 第28-29页 |
2.2 气敏器件的制备与气敏性能的测试 | 第29-30页 |
2.2.1 旁热式气体敏感器件的工作原理 | 第29页 |
2.2.2 旁热式气体敏感器件的制作 | 第29-30页 |
2.2.3 气敏器件的测试 | 第30页 |
2.3 FeVO_4形貌特征分析 | 第30-39页 |
2.3.1 反应温度对FeVO_4合成的影响 | 第30-32页 |
2.3.2 反应时间对FeVO_4合成的影响 | 第32-34页 |
2.3.3 pH值对FeVO_4合成的影响 | 第34-39页 |
2.4 气敏性能测试 | 第39-42页 |
2.4.1 不同工作温度对气敏性能的影响 | 第39-40页 |
2.4.2 不同气体浓度对气敏性能的影响 | 第40-41页 |
2.4.3 响应恢复性能分析 | 第41-42页 |
2.5 本章小结 | 第42-44页 |
第3章 BiVO_4材料的制备、改性及气敏性能的研究 | 第44-68页 |
3.1 实验部分 | 第44-48页 |
3.1.1 实验试剂 | 第44-45页 |
3.1.2 实验仪器 | 第45-46页 |
3.1.3 BiVO_4气敏材料的制备 | 第46-47页 |
3.1.4 BiVO_4气敏材料的改性 | 第47-48页 |
3.2 BiVO_4材料的形貌结构特征与气敏分析 | 第48-56页 |
3.2.1 扫描电子显微镜分析 | 第48-49页 |
3.2.2 X射线衍射图谱(XRD)分析 | 第49-50页 |
3.2.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第50-51页 |
3.2.4 拉曼(Raman)光谱分析 | 第51-52页 |
3.2.5 比表面积分析(BET) | 第52-53页 |
3.2.6 BiVO_4材料气敏性能分析 | 第53-56页 |
3.3 金属掺杂BiVO_4材料的形貌特征与气敏分析 | 第56-66页 |
3.3.1 扫描电子显微镜分析 | 第56-57页 |
3.3.2 X射线衍射图谱(XRD)分析 | 第57-59页 |
3.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第59-60页 |
3.3.4 金属掺杂BiVO_4的气敏性能 | 第60-66页 |
3.4 本章小结 | 第66-68页 |
第4章 结论与展望 | 第68-70页 |
4.1 结论 | 第68-69页 |
4.2 展望 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
作者简介 | 第77页 |