硫系玻璃基底高强减反膜制备工艺技术研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.0 研究背景 | 第8页 |
| 1.1 本课题的研究目的及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.1 红外保护膜材料的研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 PECVD技术制备DLC研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2.3 红外减反膜的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.4 硫系玻璃镀膜现状 | 第12页 |
| 1.3 课题研究内容 | 第12-14页 |
| 2 课题研究方案及可行性论证 | 第14-23页 |
| 2.1 课题研究方案 | 第14-15页 |
| 2.2 可行性论证 | 第15-22页 |
| 2.2.1 PECVD制备DLC的可行性 | 第15-17页 |
| 2.2.2 硫系玻璃基底镀膜的可行性 | 第17-19页 |
| 2.2.3 高效减反膜的工艺技术路线可行性 | 第19-21页 |
| 2.2.4 薄膜测试分析的可行性 | 第21-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 DLC的探索试验与分析 | 第23-38页 |
| 3.1 硅基底上DLC的探索试验 | 第23-28页 |
| 3.2 DLC的正交试验 | 第28-31页 |
| 3.3 DLC的优化工艺 | 第31-34页 |
| 3.4 硫系玻璃基底DLC试制 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 4 红外高效减反膜膜系设计 | 第38-51页 |
| 4.1 设计指标 | 第38页 |
| 4.2 材料选取 | 第38-39页 |
| 4.3 光学薄膜设计理论 | 第39-43页 |
| 4.4 设计方案 | 第43-50页 |
| 4.4.1 单层减反膜设计 | 第44-45页 |
| 4.4.2 多层介质减反膜设计 | 第45-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 5 红外高强减反膜的制备 | 第51-59页 |
| 5.1 高效减反膜的制备 | 第51-52页 |
| 5.2 过渡层材料的选取 | 第52-53页 |
| 5.3 高效介质膜+DLC制备 | 第53-54页 |
| 5.4 测试结果与分析 | 第54-59页 |
| 6 结论与展望 | 第59-60页 |
| 6.1 结论 | 第59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
