| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题的来源及目的意义 | 第9-10页 |
| 1.2 AZO 薄膜国内外研究 | 第10-12页 |
| 1.3 薄膜制备方法 | 第12-16页 |
| 1.3.1 磁控溅射法 | 第12-13页 |
| 1.3.2 溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| 1.3.3 水热法 | 第13-14页 |
| 1.3.4 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| 1.3.5 分子束外延法 | 第15页 |
| 1.3.6 真空蒸发镀膜 | 第15页 |
| 1.3.7 喷雾热分解法 | 第15-16页 |
| 1.4 电子与薄膜材料的相互作用 | 第16-19页 |
| 1.4.1 空间环境概述 | 第16-18页 |
| 1.4.2 电子辐照对材料的损伤 | 第18-19页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第20-27页 |
| 2.1 试验材料与仪器 | 第20页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 试验主要仪器 | 第20页 |
| 2.2 材料制备 | 第20-23页 |
| 2.2.1 磁控溅射工艺 | 第21-22页 |
| 2.2.2 水热合成工艺 | 第22-23页 |
| 2.3 电子辐照试验 | 第23-24页 |
| 2.4 测试仪器与方法 | 第24-27页 |
| 2.4.1 面电阻测试 | 第24-25页 |
| 2.4.2 X 射线衍射分析 | 第25页 |
| 2.4.3 紫外-可见光区透过率测试 | 第25页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜分析 | 第25-26页 |
| 2.4.5 原子力显微镜分析 | 第26-27页 |
| 第3章 AZO 薄膜制备及性能研究 | 第27-50页 |
| 3.1 磁控溅射工艺研究 | 第27-39页 |
| 3.1.1 溅射气压对 AZO 薄膜的影响 | 第27-33页 |
| 3.1.2 溅射功率对 AZO 薄膜的影响 | 第33-39页 |
| 3.2 水热合成工艺研究 | 第39-48页 |
| 3.2.1 Al3+离子掺杂浓度对薄膜的影响 | 第39-45页 |
| 3.2.2 水热反应时间对薄膜的影响 | 第45-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 AZO 薄膜电子辐照效应研究 | 第50-60页 |
| 4.1 电子辐照过程模拟 | 第50-53页 |
| 4.1.1 蒙特卡洛方法 | 第50-51页 |
| 4.1.2 CASINO 程序模拟 | 第51-53页 |
| 4.2 电子辐照对 AZO 薄膜结构的影响 | 第53-54页 |
| 4.3 电子辐照对 AZO 薄膜形貌的影响 | 第54-56页 |
| 4.4 电子辐照对 AZO 薄膜性能的影响 | 第56-59页 |
| 4.4.1 电子辐照对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.4.2 电子辐照对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第57-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |