摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7页 |
第一章 绪论 | 第12-21页 |
1. 1 等离子体源离子注入 | 第12-15页 |
1. 2 等离子体源离子注入的发展过程及应用 | 第15-16页 |
1. 3 本文研究内容 | 第16-21页 |
第二章 等离子体源离子注入过程中鞘层演化的研究 | 第21-33页 |
2. 1 前言 | 第21页 |
2. 2 PSII过程中等离子体鞘层演化的研究方法 | 第21-26页 |
2. 2. 1 解析方法 | 第22-23页 |
2. 2. 2 流体模型 | 第23-24页 |
2. 2. 3 Monte Carlo方法 | 第24-25页 |
2. 2. 4 PIC(Particle in cell)方法 | 第25-26页 |
2. 3 PSII过程中的流体动力学计算方法 | 第26-33页 |
第三章 空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化 | 第33-59页 |
3. 1 前言 | 第33-34页 |
3. 2 等离子体鞘层的计算机模拟 | 第34-36页 |
3. 3 无附加电极情况下的模拟结果 | 第36-44页 |
3. 4 空心圆管轴线上放置附加电极情况下的模拟结果 | 第44-55页 |
3. 5 小结 | 第55-59页 |
第四章 空心圆管内壁等离子体源离子注入过程的Monte Carlo模拟 | 第59-72页 |
4. 1 前言 | 第59-60页 |
4. 2 模型 | 第60-64页 |
4. 2. 1 电场分布 | 第61-62页 |
4. 2. 2 计算机模拟过程 | 第62-64页 |
4. 2. 3 碰撞横截面 | 第64页 |
4. 3 模拟结果及讨论 | 第64-68页 |
4. 4 小结 | 第68-72页 |
第五章 半圆形容器等离子体源子注入过程中鞘层的时空演化 | 第72-87页 |
5. 1 前言 | 第72页 |
5. 2 等离子体鞘层的模拟 | 第72-74页 |
5. 3 球心处无附加电极情况下的模拟结果 | 第74-78页 |
5. 4 球心处有附加电极情况下的模拟结果 | 第78-85页 |
5. 5 小结 | 第85-87页 |
第六章 半圆形容器等离子体源离子注入过程中温度的时空演化 | 第87-95页 |
6. 1 前言 | 第87-88页 |
6. 2 温度模型 | 第88-89页 |
6. 3 模拟结果 | 第89-92页 |
6. 4 小结 | 第92-95页 |
第七章 直流脉冲辉光放电鞘层动力学 | 第95-108页 |
7. 1 前言 | 第95-96页 |
7. 2 脉冲直流辉光放电模型 | 第96-97页 |
7. 3 模拟结果 | 第97-105页 |
7. 4 小结 | 第105-108页 |
结论 | 第108-110页 |
攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第110-111页 |
创新点摘要 | 第111-112页 |
致谢 | 第112-113页 |
附录A 半圆形容器内表面上一个微分面元与真空室内壁之间热传递的形状因子计算 | 第113-114页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第114页 |