| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 印染废水处理技术 | 第11-13页 |
| 1.1.1 印染废水的特点与排放现状 | 第11页 |
| 1.1.2 印染废水常用的处理方法 | 第11-13页 |
| 1.2 光催化氧化技术 | 第13页 |
| 1.3 TiO_2光催化剂 | 第13-18页 |
| 1.3.1 TiO_2光催化反应机理 | 第13-15页 |
| 1.3.2 TiO_2光催化活性影响因素 | 第15-17页 |
| 1.3.3 TiO_2光催化剂改性方法 | 第17-18页 |
| 1.4 TiO_2光催化剂的负载 | 第18-20页 |
| 1.4.1 载体的选择 | 第18-19页 |
| 1.4.2 TiO_2光催化剂的负载方法 | 第19-20页 |
| 1.5 TiO_2光催化剂治理印染废水的研究进展 | 第20页 |
| 1.6 本文研究目的及重点工作内容 | 第20-23页 |
| 第2章 实验试剂及表征设备简介 | 第23-27页 |
| 2.1 实验试剂 | 第23-24页 |
| 2.2 实验仪器设备 | 第24页 |
| 2.3 表征手段 | 第24-25页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第24页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜（TEM） | 第24-25页 |
| 2.3.3 X射线衍射（XRD） | 第25页 |
| 2.3.4 傅里叶变换红外光谱（FT-IR） | 第25页 |
| 2.3.5 比表面积分析仪（BET） | 第25页 |
| 2.3.6 紫外分光光度计（UV-vis） | 第25页 |
| 2.4 光催化性能的表征 | 第25-27页 |
| 第3章 褶皱状介孔氧化硅负载二氧化钛纳米材料的制备及其光催化性能研究 | 第27-46页 |
| 3.1 实验部分 | 第28-30页 |
| 3.1.1 褶皱状介孔氧化硅（M-SiO_2）的制备 | 第28-29页 |
| 3.1.2 直接浸渍法负载纳米Ti O_2 | 第29页 |
| 3.1.3 羧基修饰M-SiO_2的制备 | 第29-30页 |
| 3.1.4 表面修饰法负载纳米Ti O_2 | 第30页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第30-44页 |
| 3.2.1 直接浸渍法负载纳米Ti O_2 | 第30-33页 |
| 3.2.2 表面修饰法负载纳米Ti O_2 | 第33-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 高褶皱密度介孔氧化硅负载二氧化钛纳米材料的制备及其光催化性能研究 | 第46-57页 |
| 4.1 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.1.1 高褶皱密度介孔氧化硅（S-SiO_2）的制备 | 第47页 |
| 4.1.2 羧基修饰S-SiO_2的制备 | 第47页 |
| 4.1.3 表面修饰法负载纳米Ti O_2 | 第47-48页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第48-56页 |
| 4.2.1 COOH/S-Si O_2负载纳米TiO_2的表征 | 第48-53页 |
| 4.2.2 光催化性能的表征 | 第53-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 低褶皱密度介孔氧化硅负载二氧化钛纳米材料的制备及其光催化性能研究 | 第57-69页 |
| 5.1 实验部分 | 第57-58页 |
| 5.1.1 低褶皱密度介孔氧化硅（L-SiO_2）的制备 | 第57页 |
| 5.1.2 羧基修饰L-SiO_2的制备 | 第57-58页 |
| 5.1.3 表面修饰法负载纳米Ti O_2 | 第58页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第58-67页 |
| 5.2.1 COOH/L-SiO_2负载纳米Ti O_2的表征 | 第58-63页 |
| 5.2.2 光催化性能的表征 | 第63-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第6章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第78页 |
