| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 场发射阴极发展现状 | 第10-12页 |
| 1.2 碳纳米管场发射阴极的研究进展 | 第12-14页 |
| 1.3 碳纳米管场发射阴极的研究意义 | 第14-16页 |
| 1.4 本文研究的主要内容 | 第16-18页 |
| 2 碳纳米管的场发射理论研究 | 第18-38页 |
| 2.1 碳纳米管概述 | 第18-28页 |
| 2.1.1 碳纳米管的分类 | 第18-21页 |
| 2.1.2 碳纳米管的性能 | 第21-23页 |
| 2.1.3 碳纳米管的制备 | 第23-26页 |
| 2.1.4 碳纳米管的应用 | 第26-28页 |
| 2.2 场发射理论 | 第28-33页 |
| 2.2.1 电子发射的原理 | 第28-29页 |
| 2.2.2 第一原理 | 第29-30页 |
| 2.2.3 Hohenberg-Kohn定理 | 第30-31页 |
| 2.2.4 Kohn-Sham理论 | 第31页 |
| 2.2.5 F-N理论 | 第31-33页 |
| 2.3 碳纳米管场致发射 | 第33-38页 |
| 2.3.1 碳纳米管场发射器件 | 第34-35页 |
| 2.3.2 碳纳米管场发射器件的应用 | 第35-38页 |
| 3 丝网印刷法制备碳纳米管场发射阴极 | 第38-53页 |
| 3.1 丝网印刷法概述 | 第38-42页 |
| 3.1.1 丝网印刷法的原理 | 第38-39页 |
| 3.1.2 丝网印刷法的优点 | 第39-40页 |
| 3.1.3 丝网印刷的手工工艺 | 第40-41页 |
| 3.1.4 影响丝网印刷碳纳米管薄膜性能的因素 | 第41-42页 |
| 3.2 丝网印刷法制备碳纳米管薄膜 | 第42-44页 |
| 3.2.1 实验所用的试剂以及实验设备 | 第42-43页 |
| 3.2.2 印刷浆料的配置 | 第43-44页 |
| 3.2.3 碳纳米管阴极的印刷 | 第44页 |
| 3.3 薄膜表面形貌分析 | 第44-46页 |
| 3.4 丝网印刷法制得碳纳米管薄膜场发射性能测试 | 第46-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 4 旋转涂覆法制备碳纳米管场发射阴极 | 第53-65页 |
| 4.1 旋转涂覆法 | 第53-55页 |
| 4.2 旋转涂覆法制备碳纳米管场发射极薄膜 | 第55-57页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第55-56页 |
| 4.2.2 碳纳米管阴极的制备 | 第56-57页 |
| 4.3 丝网印刷法和旋转涂覆法制得碳纳米管薄膜场发射性能比较 | 第57-59页 |
| 4.4 热处理以及毛刷法对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第59-64页 |
| 4.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 5 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |