| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 简述绝缘材料在微电子领域的应用和研究 | 第8-10页 |
| 1.2 PMMA材料概述 | 第10-11页 |
| 1.2.1 物理性能 | 第10-11页 |
| 1.2.2 光学性能 | 第11页 |
| 1.2.3 化学性能 | 第11页 |
| 1.2.4 应用 | 第11页 |
| 1.3 PMMA薄膜在电学和光学方面的研究 | 第11-14页 |
| 1.3.1 PMMA电学特性方面的研究 | 第11-13页 |
| 1.3.2 PMMA作为光学薄膜的研究 | 第13-14页 |
| 1.4 本论文的主要工作及安排 | 第14-15页 |
| 2 MOS(MIS)结构及其电容-电压(C-V)特性 | 第15-27页 |
| 2.1 MOS(MIS)结构概述 | 第15页 |
| 2.2 表面电场效应和理想MOS电容 | 第15-22页 |
| 2.3 实际Si-SiO_2系统的性质 | 第22-24页 |
| 2.4 非理想条件下的MOS电容 | 第24-26页 |
| 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 测试方法 | 第27-32页 |
| 3.1 X射线衍射谱(XRD) | 第27页 |
| 3.2 薄膜厚度的测量 | 第27-28页 |
| 3.3 电容-电压测试 | 第28-29页 |
| 3.4 固态介质薄膜的电击穿场强 | 第29-30页 |
| 3.5 透射-吸收光谱 | 第30-31页 |
| 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 实验方法 | 第32-47页 |
| 4.1 器件的制备 | 第32-35页 |
| 4.1.1 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)溶液配制 | 第33页 |
| 4.1.2 清洗 | 第33-34页 |
| 4.1.3 硅片的背电极制作 | 第34页 |
| 4.1.4 PMMA薄膜制备 | 第34-35页 |
| 4.2 测试分析部分 | 第35-45页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第35-36页 |
| 4.2.2 金相显微镜下的PMMA薄膜形貌 | 第36-38页 |
| 4.2.3 PMMA薄膜的介电特性 | 第38-44页 |
| 4.2.4 PMMA/ITO玻璃结构的光学特性 | 第44-45页 |
| 本章小结 | 第45-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |