| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 电感器的结构变化 | 第15-21页 |
| 1.2.1 插装式电感及片式电感 | 第15-17页 |
| 1.2.2 平面结构薄膜电感 | 第17-20页 |
| 1.2.3 体结构电感 | 第20-21页 |
| 1.3 薄膜电感器的研究现状 | 第21-23页 |
| 1.4 论文选题的与意义 | 第23-24页 |
| 第二章 薄膜电感的设计 | 第24-36页 |
| 2.1 薄膜电感磁芯的选择 | 第24-27页 |
| 2.1.1 常用薄膜磁芯材料 | 第25-27页 |
| 2.1.2 磁芯的选择 | 第27页 |
| 2.2 薄膜电感的计算 | 第27-30页 |
| 2.3 薄膜电感的等效电路图及测试方法 | 第30-32页 |
| 2.4 薄膜电感的设计 | 第32-35页 |
| 2.4.1 特殊磁芯电感的结构 | 第33-34页 |
| 2.4.2 全磁膜电感的结构 | 第34-35页 |
| 2.4.3 三文治电感的结构 | 第35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 实验方法 | 第36-45页 |
| 3.1 薄膜材料的制备方法 | 第36-40页 |
| 3.1.1 溅射沉积原理 | 第36-38页 |
| 3.1.2 直流磁控溅射 | 第38页 |
| 3.1.3 射频磁控溅射 | 第38-40页 |
| 3.2 薄膜样品测试分析方法 | 第40-45页 |
| 3.2.1 表面形貌观察 | 第40-41页 |
| 3.2.2 成分分析 | 第41-42页 |
| 3.2.3 电性能测量 | 第42页 |
| 3.2.4 磁性能测试 | 第42-43页 |
| 3.2.5 电感低频特性测试 | 第43-45页 |
| 第四章 电感薄膜的制备工艺及性能 | 第45-55页 |
| 4.1 薄膜的制备 | 第45页 |
| 4.2 溅射工艺对薄膜电性能的影响 | 第45-48页 |
| 4.2.1 溅射工艺对Co膜电性能的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.2 溅射工艺对Cu膜电性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 薄膜的组织形貌分析 | 第48-53页 |
| 4.3.1 Co膜的组织形貌 | 第48-49页 |
| 4.3.2 Cu膜的组织形貌 | 第49-50页 |
| 4.3.3 工艺参数对SiO_2薄膜组织形貌的影响 | 第50-53页 |
| 4.4 薄膜的磁性能分析 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结构和制备工艺对薄膜电感性能的影响 | 第55-72页 |
| 5.1 薄膜电感的制备 | 第55-56页 |
| 5.2 结构对薄膜电感性能的影响 | 第56-65页 |
| 5.2.1 结构对电感器性能的影响 | 第57-60页 |
| 5.2.2 结构对电感磁芯薄膜电性能影响 | 第60-63页 |
| 5.2.3 结构对电感线圈电性能影响 | 第63-65页 |
| 5.3 工艺对薄膜电感寄生电容的影响 | 第65-68页 |
| 5.3.1 Co膜工艺对寄生电容的影响 | 第66-67页 |
| 5.3.2 Cu膜工艺对寄生电容的影响 | 第67-68页 |
| 5.4 工艺对薄膜电感损耗因子的影响 | 第68-70页 |
| 5.4.1 Co膜工艺对损耗因子的影响 | 第68-69页 |
| 5.4.2 Cu膜工艺对损耗因子的影响 | 第69-70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 总结与展望 | 第72-74页 |
| 特色与创新之处 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |