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基于闭合磁路的框式薄膜电感的制备与性能研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第14-24页
    1.1 引言第14-15页
    1.2 电感器的结构变化第15-21页
        1.2.1 插装式电感及片式电感第15-17页
        1.2.2 平面结构薄膜电感第17-20页
        1.2.3 体结构电感第20-21页
    1.3 薄膜电感器的研究现状第21-23页
    1.4 论文选题的与意义第23-24页
第二章 薄膜电感的设计第24-36页
    2.1 薄膜电感磁芯的选择第24-27页
        2.1.1 常用薄膜磁芯材料第25-27页
        2.1.2 磁芯的选择第27页
    2.2 薄膜电感的计算第27-30页
    2.3 薄膜电感的等效电路图及测试方法第30-32页
    2.4 薄膜电感的设计第32-35页
        2.4.1 特殊磁芯电感的结构第33-34页
        2.4.2 全磁膜电感的结构第34-35页
        2.4.3 三文治电感的结构第35页
    2.5 本章小结第35-36页
第三章 实验方法第36-45页
    3.1 薄膜材料的制备方法第36-40页
        3.1.1 溅射沉积原理第36-38页
        3.1.2 直流磁控溅射第38页
        3.1.3 射频磁控溅射第38-40页
    3.2 薄膜样品测试分析方法第40-45页
        3.2.1 表面形貌观察第40-41页
        3.2.2 成分分析第41-42页
        3.2.3 电性能测量第42页
        3.2.4 磁性能测试第42-43页
        3.2.5 电感低频特性测试第43-45页
第四章 电感薄膜的制备工艺及性能第45-55页
    4.1 薄膜的制备第45页
    4.2 溅射工艺对薄膜电性能的影响第45-48页
        4.2.1 溅射工艺对Co膜电性能的影响第46-47页
        4.2.2 溅射工艺对Cu膜电性能的影响第47-48页
    4.3 薄膜的组织形貌分析第48-53页
        4.3.1 Co膜的组织形貌第48-49页
        4.3.2 Cu膜的组织形貌第49-50页
        4.3.3 工艺参数对SiO_2薄膜组织形貌的影响第50-53页
    4.4 薄膜的磁性能分析第53-54页
    4.5 本章小结第54-55页
第五章 结构和制备工艺对薄膜电感性能的影响第55-72页
    5.1 薄膜电感的制备第55-56页
    5.2 结构对薄膜电感性能的影响第56-65页
        5.2.1 结构对电感器性能的影响第57-60页
        5.2.2 结构对电感磁芯薄膜电性能影响第60-63页
        5.2.3 结构对电感线圈电性能影响第63-65页
    5.3 工艺对薄膜电感寄生电容的影响第65-68页
        5.3.1 Co膜工艺对寄生电容的影响第66-67页
        5.3.2 Cu膜工艺对寄生电容的影响第67-68页
    5.4 工艺对薄膜电感损耗因子的影响第68-70页
        5.4.1 Co膜工艺对损耗因子的影响第68-69页
        5.4.2 Cu膜工艺对损耗因子的影响第69-70页
    5.5 本章小结第70-72页
总结与展望第72-74页
特色与创新之处第74-75页
参考文献第75-80页
攻读硕士学位期间发表的论文第80-82页
致谢第82页

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