内嵌六方金刚石的无定形碳纳米锥阵列制备及场发射性能
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·场发射平板显示器的发展 | 第9-12页 |
| ·金属微尖锥型场发射阵列 | 第10-11页 |
| ·硅微尖锥型场发射阵列 | 第11页 |
| ·碳基材料薄膜型场发射阵列 | 第11-12页 |
| ·碳基材料简介 | 第12-17页 |
| ·金刚石材料 | 第13-16页 |
| ·金刚石合成 | 第16-17页 |
| ·本论文选题依据与主要研究内容 | 第17-18页 |
| ·选题依据 | 第17-18页 |
| ·主要研究内容 | 第18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 准一维场发射纳米材料的研究进展 | 第20-32页 |
| ·纳米材料的特性 | 第20-21页 |
| ·一维场发射纳米材料的研究进展 | 第21-27页 |
| ·纳米管 | 第22-23页 |
| ·纳米线 | 第23-24页 |
| ·纳米棒 | 第24-26页 |
| ·纳米锥 | 第26-27页 |
| ·纳米锥阵列的制备 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 第三章 实验方法 | 第32-39页 |
| ·阳极氧化铝模板 | 第32-33页 |
| ·阳极氧化铝的制备工艺 | 第32-33页 |
| ·磁过滤阴极弧等离子体技术及设备 | 第33-37页 |
| ·弧光放电 | 第33-34页 |
| ·等离子体基础 | 第34-36页 |
| ·磁过滤阴极弧等离子体沉积设备 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第四章 场发射阴极材料的制备及其性能研究 | 第39-53页 |
| ·碳纳米锥阵列的制备 | 第39-46页 |
| ·碳纳米锥阵列的Raman光谱分析 | 第42-43页 |
| ·碳纳米锥阵列的透射电镜形貌 | 第43页 |
| ·碳纳米锥阵列的XPS分析 | 第43-44页 |
| ·碳纳米锥阵列的场发射性能 | 第44-46页 |
| ·场发射性能结果分析 | 第46-48页 |
| ·六方金刚石的形成机理 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 第五章 不同孔间距氧化铝模板的制备 | 第53-58页 |
| ·影响AAO模板生长的因素 | 第53页 |
| ·不同孔间距的AAO模板的制备 | 第53-57页 |
| ·在草酸溶液中制备AAO模板 | 第53-54页 |
| ·在磷酸溶液中制备AAO模板 | 第54-55页 |
| ·在柠檬酸溶液中制备AAO模板 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 在学期间的研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
