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石墨烯硅基光电二极管的研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第11-25页
    1.1 石墨烯的发现第11页
    1.2 石墨烯的结构和性质第11-15页
    1.3 石墨烯的制备方法第15-18页
        1.3.1 微机械剥离法第15-16页
        1.3.2 化学气相沉积(CVD)法第16-17页
        1.3.3 氧化还原法第17页
        1.3.4 其他方法第17-18页
    1.4 国内外研究现状第18-23页
        1.4.1 化学掺杂石墨烯太阳能电池第19-20页
        1.4.2 回路循环增益石墨烯光电探测器第20-21页
        1.4.3 等离子体增强的石墨烯光电探测器第21-23页
        1.4.4 共振腔增强的石墨烯光探测器第23页
    1.5 本文的创新点和主要内容第23-25页
2 石墨烯硅光电二极管的研究第25-47页
    2.1 Gr/Si光电二极管的工作原理第25-27页
    2.2 Gr/Si光电二极管的制备过程第27-32页
        2.2.1 实验材料第27页
        2.2.2 制备仪器设备第27-30页
        2.2.3 工艺流程第30-32页
    2.3 材料和器件表征第32-35页
    2.4 石墨烯硅光电二极管的性能和分析第35-45页
        2.4.1 Gr/Si肖特基结参数第35-37页
        2.4.2 光强、偏压对Gr/Si电流密度和响应度的影响第37-38页
        2.4.3 Gr/Si的光电转换效率第38-40页
        2.4.4 Gr/Si的响应速度第40-42页
        2.4.5 Gr/Si的光电增益第42-45页
    2.5 本章小结第45-47页
3 硅量子点/石墨烯/硅异质结的研究第47-70页
    3.1 引言第47页
    3.2 SiQDs/Gr/Si异质结的制备和表征第47-54页
        3.2.1 SiQDs制备过程第47-48页
        3.2.2 SiQDs结构表征和性能第48-50页
        3.2.3 SiQDs/Gr/Si制备工艺第50-51页
        3.2.4 SiQDs/Gr/Si表征第51-54页
    3.3 SiQDS/Gr/Si的性能第54-61页
        3.3.1 SiQDs膜厚与响应度的关系第54-55页
        3.3.2 器件的光电转换效率第55-57页
        3.3.3 器件的响应速度第57-60页
        3.3.4 器件的噪声和探测度第60-61页
    3.4 SiQDs作用机理分析第61-68页
    3.5 本章小结第68-70页
4 总结和展望第70-73页
参考文献第73-81页
攻读硕士学位期间主要的研究成果第81页

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