| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·电致变色材料 | 第10-14页 |
| ·电致变色材料发展概述 | 第10-11页 |
| ·无机电致变色材料 | 第11-12页 |
| ·有机电致变色材料 | 第12-14页 |
| ·电致变色机理 | 第14-17页 |
| ·电致变色薄膜制备方法与特性 | 第17-21页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第17-18页 |
| ·Sol-Gel 法 | 第18-19页 |
| ·电沉积法 | 第19页 |
| ·溅射法 | 第19-20页 |
| ·蒸发法 | 第20-21页 |
| ·电致变色器件 | 第21-26页 |
| ·电致变色器件结构及其工作原理 | 第21-24页 |
| ·电致变色器件的应用 | 第24-26页 |
| ·NiO和WO_3电致变色薄膜的研究现状 | 第26-28页 |
| ·NiO 电致变色薄膜 | 第26页 |
| ·WO_3电致变色薄膜 | 第26-28页 |
| ·本论文选题的目的和意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方法及测试 | 第30-34页 |
| ·实验药品及仪器 | 第30-31页 |
| ·实验药品 | 第30-31页 |
| ·实验仪器 | 第31页 |
| ·材料的制备 | 第31-34页 |
| ·化学沉积法制备多孔纳米NiO 电致变色薄膜 | 第31-32页 |
| ·电沉积法制备WO_3电致变色薄膜 | 第32页 |
| ·电解液的制备 | 第32页 |
| ·材料表征 | 第32-34页 |
| ·XRD 测试 | 第32-33页 |
| ·表面形貌分析（SEM） | 第33页 |
| ·循环伏安（CV）和电化学阻抗测试（EIS） | 第33页 |
| ·光谱测试 | 第33-34页 |
| 第三章 多孔NiO 纳米薄膜的制备及电致变色特性 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·多孔纳米NiO 薄膜的成膜工艺 | 第35-36页 |
| ·多孔纳米NiO 薄膜的结构和形貌分析 | 第36-37页 |
| ·XRD 分析 | 第36-37页 |
| ·SEM 分析 | 第37页 |
| ·热处理温度对多孔纳米NiO 薄膜电致变色性能的影响 | 第37-39页 |
| ·多孔纳米NiO 薄膜的电化学性能分析 | 第39-43页 |
| ·NiO 薄膜的循环伏安性能 | 第39-40页 |
| ·NiO 薄膜的电化学阻抗性能 | 第40-42页 |
| ·NiO 薄膜电致变色随循环伏安变化 | 第42-43页 |
| ·NiO 薄膜的计时电流研究 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 WO_3薄膜的制备及电致变色特性 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·WO_3薄膜的结构和形貌分析 | 第46-48页 |
| ·XRD 分析 | 第46-47页 |
| ·SEM 分析 | 第47-48页 |
| ·热处理温度对WO_3薄膜电致变色性能的影响 | 第48-49页 |
| ·WO_3薄膜的电化学性能分析 | 第49-52页 |
| ·WO_3薄膜的循环伏安性能 | 第49-51页 |
| ·WO_3薄膜的电化学阻抗性能 | 第51-52页 |
| ·WO_3薄膜的计时电流研究 | 第52页 |
| ·薄膜形态对WO_3薄膜电致变色性能的影响 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 NiO/ WO_3互补结构的电致变色器件研究 | 第57-63页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·电致变色器件 | 第57-59页 |
| ·NiO/ WO_3互补结构的器件的电致变色和电化学性能 | 第59-62页 |
| ·电致变色器件的电致变色性能 | 第59页 |
| ·电致变色器件的循环伏安研究 | 第59-61页 |
| ·电致变色器件的计时电流研究 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
