柱式平板声子晶体点缺陷传感器关键技术研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 声子晶体概况 | 第10-12页 |
1.2 声学传感器在检测方面的发展概况 | 第12-16页 |
1.3 声子晶体研究现状 | 第16-20页 |
1.4 本论文的研究内容和基本框架 | 第20-22页 |
第2章 声子晶体理论基础与特性 | 第22-32页 |
2.1 弹性波动理论基础 | 第22-25页 |
2.2 晶体基础理论 | 第25-28页 |
2.3 声子晶体带隙特性与带隙计算方法 | 第28-30页 |
2.4 本章小结 | 第30-32页 |
第3章 硅基声子晶体点缺陷的MEMS加工 | 第32-48页 |
3.1 器件的加工工艺简介 | 第32-36页 |
3.2 单模孔式声子晶体工艺 | 第36-44页 |
3.3 柱式平板声子晶体工艺 | 第44-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-48页 |
第4章 柱式平板声子晶体研究 | 第48-58页 |
4.1 引言 | 第48-49页 |
4.2 柱式平板声子晶体仿真计算 | 第49-50页 |
4.3 柱式平板声子晶体测试 | 第50-53页 |
4.4 关键损耗因素 | 第53-55页 |
4.5 柱式平板声子晶体误差分析 | 第55-56页 |
4.6 本章小结 | 第56-58页 |
第5章 结论与展望 | 第58-60页 |
5.1 结论 | 第58-59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
在学期间学术成果情况 | 第66-68页 |
指导教师及作者简介 | 第68-70页 |
致谢 | 第70页 |