| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·TMDCs纳米片层材料简介 | 第8-14页 |
| ·TMDCs纳米片层材料的结构特征 | 第9-10页 |
| ·TMDCs纳米片层材料的形貌特征 | 第10-12页 |
| ·TMDCs纳米片层材料的性能特征 | 第12-14页 |
| ·TMDCs纳米片层材料的应用 | 第14-15页 |
| ·TMDCs纳米片层材料的制备 | 第15-17页 |
| ·机械剥离 | 第16页 |
| ·化学气相沉积 | 第16页 |
| ·胶体化学 | 第16页 |
| ·液相剥离 | 第16-17页 |
| ·化学插层 | 第17页 |
| ·文章研究思路 | 第17-19页 |
| 第二章 超声增强锂插层制备单层MoS_2纳米片的方法 | 第19-32页 |
| ·概述 | 第19-20页 |
| ·实验内容 | 第20-23页 |
| ·实验试剂 | 第20页 |
| ·实验仪器 | 第20-21页 |
| ·实验步骤 | 第21-23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-30页 |
| ·MoS_2纳米片结构与性能表征 | 第23-27页 |
| ·ULI方法的机理分析 | 第27-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 超声增强锂插层方法通用性的研究 | 第32-44页 |
| ·概述 | 第32-33页 |
| ·实验部分 | 第33-36页 |
| ·实验试剂 | 第33页 |
| ·实验仪器 | 第33-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-43页 |
| ·TiS_2纳米片与WS_2纳米片的制备 | 第36-40页 |
| ·离心条件对材料尺寸的影响 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 MoS_2纳米片层材料光热抗菌性能的研究 | 第44-52页 |
| ·概述 | 第44-45页 |
| ·实验部分 | 第45-47页 |
| ·实验试剂 | 第45页 |
| ·实验仪器 | 第45页 |
| ·实验步骤 | 第45-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·MoS_2光热剂的形貌与性能表征 | 第47-49页 |
| ·MoS_2光热剂的抗菌活性 | 第49-50页 |
| ·MoS_2光热剂浓度对于抗菌效果的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-62页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第62-63页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第63-64页 |
| 附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |